[实用新型]一种基于单片机的防辐射外壳

说明书

本实用新型公开了一种基于单片机的防辐射外壳，包括STM32单片机，所述STM32单片机的外侧壁固定连接有保护单片机的辐射屏蔽膜，所述保护单片机的辐射屏蔽膜的输出端电性连接有辐射防护外壳，所述辐射防护外壳的外侧壁贯穿固定连接有低功耗散热器，本实用新型通过扫描角运动机构，扫描角运动机构是一个单轴定位器,因此光束始终被聚焦在试样表面上，它比传统的单一移动半导体器件x‑y平台的方法简单得多，而且假如使用退火支架的话,这种方法更能保持半导体器件和试样架不移动，不会对机电设备在核环境下工作造成影响，根据这种方法建立起来的系统能均匀地把小尺寸的集成电路退火,而在机械上比以移动试样方法为基础的系统更加实用。

技术领域

本实用新型涉及防辐射技术领域，尤其涉及一种基于单片机的防辐射外壳。

背景技术

随着现代科技的高速发展，一种看不见、摸不着的污染源日益受到各界的关注，这就是被人们称为“隐形杀手”的电磁辐射，对于人体这一良导体，电磁波会不可避免地构成一定程度的危害，一般来说，雷达系统、电视和广播发射系统、射频及微波医疗设备、通信发射站及超高压输电线以及大多数家用电器等都可以产生各种形式、不同频率、不同强度的电磁辐射源，现如今，电磁辐射污染被公认为是危害生态环境的重要污染源，联合国环境会议也将其列为重要污染防治对象，电磁技术的广泛应用，人们在享受其所带来的惠益时，也开始注意到其所带来的污染问题，电磁辐射污染防治问题也成为了环境法领域重要的难点和热点问题；

传统单片机的防辐射外壳的热退火方式是把整个部件放入真空环境下以加热，以300℃～1200℃温度保温退火10～60min，这种方式并不能完全消除存在其中的缺陷，可能导致器件性能难以恢复，表面机体发生分解，为此我们提出一种基于单片机的防辐射外壳来解决上述问题。

实用新型内容

本实用新型的目的是为了解决现有技术中存在的缺点，而提出的一种基于单片机的防辐射外壳。

为了实现上述目的，本实用新型采用了如下技术方案：

一种基于单片机的防辐射外壳，包括STM32单片机，所述STM32 单片机的外侧壁固定连接有保护单片机的辐射屏蔽膜，所述保护单片机的辐射屏蔽膜的输出端电性连接有辐射防护外壳，所述辐射防护外壳的外侧壁贯穿固定连接有低功耗散热器，所述辐射防护外壳的顶部固定连接有低功耗加热板。

优选地，所述低功耗加热板为阵列设置，所述低功耗加热板的数量为多个。

优选地，所述辐射防护外壳、低功耗散热器和低功耗加热板构成加热退火系统。

优选地，所述低功耗散热器的内侧壁转动连接有风扇。

优选地，所述辐射防护外壳采用了辐射射线屏蔽优化设计。

相比现有技术，本实用新型的有益效果为：

1、本实用新型通过扫描角运动机构，扫描角运动机构是一个单轴定位器,因此光束始终被聚焦在试样表面上，它比传统的单一移动半导体器件x-y平台的方法简单得多，而且假如使用退火支架的话, 这种方法更能保持半导体器件和试样架不移动，不会对机电设备在核环境下工作造成影响，根据这种方法建立起来的系统能均匀地把小尺寸的集成电路退火,而在机械上比以移动试样方法为基础的系统更加实用。

2、本实用新型通过以利用位于反射镜前的聚焦透镜移动光束为基础，以单片机控制以光谱物理5瓦氢离子气体激光器的输出辐射为载体通过透镜并扫描试样。单片机通过输出适当电信号于x和y轴反射镜来实现激光扫描退火的过程。x和y轴反射镜都能在128个空间角度定位，通过连接适当的点便能对集成电路电子器件完成退火，系统分为两个通道，每个通道使用高比特A/D转换器提高了分辨率。

附图说明

图1为本实用新型提出的一种基于单片机的防辐射外壳的正面立体结构示意图；