[实用新型]一种抽插式平面靶轭铁结构

说明书

本实用新型公开了一种抽插式平面靶轭铁结构，包括：靶材；靶体，靶体与靶材相连，靶体限定有容纳腔，靶体的顶端设有插入口，靶体的底端设有顶起孔，插入口和顶起孔分别与容纳腔连通，顶起孔处可拆卸安装有密封堵头，容纳腔的远离靶材的内壁上分别设有第一导块和第二导块，第一导块邻近顶起孔，第二导块邻近插入口；轭铁，轭铁的靠近靶材的表面上固定安装有磁铁，轭铁通过插入口插入到容纳腔中，轭铁的远离靶材的表面抵接在第一导块和第二导块上，且磁铁与容纳腔的靠近靶材的表面抵接。本装置中的磁铁与轭铁组装成一体，整体通过插入口插入到容纳腔中或者从容纳腔中取出，不再需要拆装靶体上的其它零部件，方便快捷。

技术领域

本实用新型涉及真空溅射镀膜领域，尤其是涉及一种抽插式平面靶轭铁结构。

背景技术

目前真空溅射镀膜生产的设备中大多采用平面溅射阴极靶材这种方式，其工作原理是：将需镀膜的基材送入真空镀膜室内，真空镀膜室内通入一定高纯的氩气以及一些需要的反应气体(例如氧气、氮气、乙炔等)；当靶通电后，在空间中的游离电子会在电磁场的作用下对氩气等气体进行电离，并产生辉光放电。而氩气是由氩原子组成，氩原子电离后产生氩离子，在电磁场的作用下变成高能氩离子会向阴极靶面飞去，且与靶面原子或分子进行碰撞，溅射出靶材原子或分子等粒子，并飞向基材表面形成膜层。为了增加溅射率，可通过在靶阴极表面引入磁场，利用磁场对带电粒子的约束来提高等离子体密度来实现，从而实现高速率溅射的过程，而由于大量高能氩离子碰撞靶材表面产生溅射的同时会给靶材带来大量热量，为了防止靶材变形，一般在靶材背面的靶体内进行通入冷却水进行冷却。

现有技术中的一些平面靶磁铁结构中，靶体结构都比较复杂，靶体的安装以及磁铁轭铁的安装所需要的拆装螺钉较多，后续的维修保养比较麻烦。

实用新型内容

本实用新型旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此，本实用新型的第一个目的在于提供一种抽插式平面靶轭铁结构，便于轭铁和磁铁的拆装。

本实用新型的技术方案如下：一种抽插式平面靶轭铁结构，包括：靶材；靶体，所述靶体与所述靶材相连，所述靶体限定有容纳腔，所述靶体的顶端设有插入口，所述靶体的底端设有顶起孔，所述插入口和所述顶起孔分别与所述容纳腔连通，所述顶起孔处可拆卸安装有密封堵头，所述容纳腔的远离所述靶材的内壁上分别设有第一导块和第二导块，所述第一导块邻近所述顶起孔，所述第二导块邻近所述插入口；轭铁，所述轭铁的靠近所述靶材的表面上固定安装有磁铁，所述轭铁通过所述插入口插入到所述容纳腔中，所述轭铁的远离所述靶材的表面抵接在所述第一导块和所述第二导块上，且所述磁铁与所述容纳腔的靠近所述靶材的表面抵接。

进一步地，所述轭铁的靠近所述插入口的一端设有进水孔，所述进水孔沿所述轭铁的长度方向延伸且贯穿至所述轭铁的靠近所述靶材的表面，所述轭铁的外侧壁、所述磁铁与所述容纳腔的内侧壁限定出水流通道，所述插入口的一部分限定出出水口，所述进水孔、所述水流通道和所述出水口连通。

进一步地，所述第一导块的靠近所述插入口的表面被构造成导向斜面，沿所述轭铁的插入方向，所述导向斜面朝向靠近所述靶材的方向倾斜，所述第一导块的靠近所述靶材的表面上设有台阶部，所述轭铁的远离插入口的一端抵接在所述台阶部上。

进一步地，所述靶体的邻近所述插入口一端设有第一斜面，所述第二导块的靠近所述插入口的一侧设有挡板；

所述第二导块的横截面形状为直角三角形，所述第二导块具有互相垂直的第一平面和第二平面以及与所述第一平面和所述第二平面相连的第二斜面；

所述第二斜面与所述第一斜面平行且抵接，所述第一平面与所述轭铁抵接，所述第二平面与所述挡板抵接，所述挡板通过螺钉与所述靶体相连。

进一步地，所述顶起孔为螺孔，所述密封堵头与所述顶起孔螺纹连接。