[实用新型]一种检测装置和硅片分选设备

权利要求书

1.一种检测装置，其特征在于，所述检测装置包括用于输送待测物体的输送机构和检测机构，所述检测机构被配置为检测所述输送机构输送的待测物体的第一边缘和第二边缘，所述第一边缘和所述第二边缘为所述待测物体上相对的且与所述输送机构的输送方向垂直的两条边缘，所述检测机构包括检测相机、第一边缘照射光源、第二边缘照射光源和反射机构，其中：

所述第一边缘照射光源被配置为照射待测物体的所述第一边缘；

所述第二边缘照射光源被配置为照射待测物体的所述第二边缘；

所述反射机构被配置为对所述第一边缘照射光源发出的第一边缘照射光线进行至少一次反射，以使得所述第一边缘照射光线经所述待测物体的第一边缘反射后被所述检测相机探测到；

所述反射机构被配置为对所述第二边缘照射光源发出的第二边缘照射光线进行至少一次反射，以使得所述第二边缘照射光线经所述待测物体的第二边缘反射后被所述检测相机探测到。

2.如权利要求1所述的检测装置，其特征在于：

所述输送机构将所述待测物体从后往前输送，所述第一边缘为所述待测物体的前端边缘，所述第二边缘为所述待测物体的后端边缘，所述第一边缘照射光源位于所述输送机构的前侧，所述第二边缘照射光源位于所述输送机构的后侧，所述检测相机位于所述输送机构的上方或下方并位于所述第一边缘照射光源和所述第二边缘照射光源之间；

所述待测物体的前端边缘到达第一检测位置时，所述第一边缘照射光源发出的第一边缘照射光线照射至所述待测物体的前端边缘，自所述前端边缘反射的所述第一边缘照射光线经所述反射机构反射至所述检测相机；

所述待测物体的后端边缘到达第二检测位置时，所述第二边缘照射光源发出的第二边缘照射光线照射至所述待测物体的后端边缘，自所述后端边缘反射的所述第二边缘照射光线经所述反射机构反射至所述检测相机。

3.如权利要求2所述的检测装置，其特征在于：

所述第一检测位置和所述第二检测位置之间的距离大于所述待测物体的前端边缘和所述待测物体的后端边缘之间的距离，所述待测物体的后端边缘在第一时刻到达所述第二检测位置，所述待测物体的前端边缘在第二时刻到达所述第一检测位置，所述第一时刻早于所述第二时刻。

4.如权利要求2所述的检测装置，其特征在于：

所述第一检测位置和所述第二检测位置之间的距离小于所述待测物体的前端边缘和所述待测物体的后端边缘之间的距离，所述待测物体的前端边缘在第三时刻到达所述第一检测位置，所述待测物体的后端边缘在第四时刻到达所述第二检测位置，所述第三时刻早于所述第四时刻。

5.如权利要求2所述的检测装置，其特征在于，所述检测装置还包括上料输送机构和下料输送机构，其中：

所述上料输送机构位于所述输送机构的后侧，所述上料输送机构用于将待检测物体自上道工位输送至所述输送机构，所述上料输送机构与所述输送机构之间保留有第一安装间隙；

所述下料输送机构位于所述输送机构的前侧，所述下料输送机构用于将待检测物体自所述输送机构输送至下道工位，所述下料输送机构与所述输送机构之间保留有第二安装间隙。

6.如权利要求2所述的检测装置，其特征在于，所述反射机构包括第一边缘光反射机构、第二边缘光反射机构及光路整合机构，其中：

所述第一边缘光反射机构被配置为将所述第一边缘照射光源发出的第一边缘照射光线反射至所述光路整合机构；

所述第二边缘光反射机构被配置为将所述第二边缘照射光源发出的第二边缘照射光线反射至所述光路整合机构；

所述光路整合机构被配置为将反射至所述光路整合机构的所述第一边缘照射光线反射至所述检测相机，及将反射至所述光路整合机构的所述第二边缘照射光线透射至所述检测相机。