[实用新型]一种掩模架子

说明书

本实用新型公开了一种掩模架子，包括曝光台以及固定于所述曝光台上方的激光器组件，其特征在于：所述曝光台与所述激光器组件之间设有能调节且固定不同尺寸掩模的固定调节组件，通过摇动转柄，带动螺纹杆转动，精准控制同一活动槽内的第一滑块与第二滑块做相向运动，从而实现调节不同尺寸的掩模的固定作用，又通过第一滑块上的弹簧、挡块，避免螺纹调节过快，导致掩模损坏，而相对位置的第二滑块未设置弹簧、挡块，保证掩模该侧的位置精准，该侧不产生弹性误差，配合第一滑块上的弹簧、挡板的挤压固定作用，使掩模的调节定位更加精准，又通过滚轮，减少调节过程中，滑块与掩模底面的摩擦力，较少调节过程对掩模的磨损。

技术领域

本实用新型涉及掩模技术领域，具体为一种掩模架子。

背景技术

掩模版简称掩模，是光刻工艺不可缺少的部件。掩模上承载有设计图形，光线透过它，把设计图形透射在光刻胶上。掩模的性能直接决定了光刻工艺的质量。在投影式光刻机中，掩模作为一个光学元件位于会聚透镜与投影透镜之间，它并不和晶圆有直接接触。掩模上的图形缩小4～10倍后透射在晶圆表面。为了区别接触式曝光中使用的掩模，投影式曝光中使用的掩模又被称为倍缩式掩模。

掩模主要铝合金框架以及位于铝合金框架中部的具有高透光性能的石英玻璃组成，铝合金框架四周蒙贴有保护膜，掩模所有曝光的区域都必须在保护膜的覆盖之下。外界和掩模的机械接触都发生在铝合金框架之外的部分，在铝合金框架之外的区域还设置有预对准标识、掩模版的序列号、工厂的序列号、TIS标识等。

光刻机使用时，刻蚀掩模版前，需固定不同尺寸的掩模版，现有的光刻机通过人工配合刻度尺居中对齐掩模版，调整不便利，且精度不高，使铝合金框架之外的标识感应区域与相对应组件位置有偏差，导致接触不良，图形投影质量不佳，为此，我们提出一种掩模架子。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种掩模架子，以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种掩模架子，包括曝光台以及固定于所述曝光台上方的激光器组件，所述曝光台与所述激光器组件之间设有能调节且固定不同尺寸掩模的固定调节组件。

优选的，所述固定调节组件包括与激光器组件的连接杆连接固定的基板，所述基板顶面开设有相互横纵交错的两个活动槽，所述活动槽内设有螺纹杆，所述螺纹杆一端固定连接有限位盘，所述螺纹杆另一端穿过活动槽外并固定连接有转柄，所述螺纹杆外表面呈对接结构螺纹连接有第一活动块、第二活动块，所述第一活动块、第二活动块顶端穿过活动槽外分布固定连接有第一滑块、第二滑块，所述第一滑块顶面中部设有挡板，所述挡板外侧固定连接有伸缩杆，所述伸缩杆外表面卷绕有弹簧，所述弹簧两端分别与挡板以及第一滑块挂接配合，所述第一滑块、第二滑块顶面内侧嵌设有多个滚轮。

优选的，所述第一滑块、第二滑块与基板活动配合，所述限位盘与活动槽转动配合，所述挡板与第一滑块活动配合。

优选的，所述第一滑块、第二滑块呈L型结构。

优选的，所述活动槽呈顶窄底宽结构。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：

本实用新型通过摇动转柄，带动螺纹杆转动，精准控制同一活动槽内的第一滑块与第二滑块做相向运动，从而实现调节不同尺寸的掩模的固定作用，又通过第一滑块上的弹簧、挡块，避免螺纹调节过快，导致掩模损坏，而相对位置的第二滑块未设置弹簧、挡块，保证掩模该侧的位置精准，该侧不产生弹性误差，配合第一滑块上的弹簧、挡板的挤压固定作用，使掩模的调节定位更加精准，保证掩模上的标识感应区域与相对应感应组件位置精准接触，确保投影质量，又通过滚轮，减少调节过程中，滑块与掩模底面的摩擦力，较少调节过程对掩模的磨损。

附图说明

图1为本实用新型整体结构示意图；

图2为本实用新型固定调节组件结构前视剖面示意图；