[实用新型]一种70对棒多晶硅还原炉底盘有效
申请号: | 202022501563.2 | 申请日: | 2020-11-03 |
公开(公告)号: | CN213713975U | 公开(公告)日: | 2021-07-16 |
发明(设计)人: | 盛斌;詹水华;缪炳;文德育 | 申请(专利权)人: | 江苏双良新能源装备有限公司 |
主分类号: | F27D11/10 | 分类号: | F27D11/10;F27D3/00;C01B33/035 |
代理公司: | 江阴市扬子专利代理事务所(普通合伙) 32309 | 代理人: | 刘小红 |
地址: | 214444 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 70 多晶 还原 底盘 | ||
本实用新型涉及一种70对棒多晶硅还原炉底盘,包括底盘法兰、底盘面板、中心尾气孔、电极孔、进料喷嘴和外圈尾气孔,所述中心尾气孔、电极孔、进料喷嘴和外圈尾气孔按设计要求分布在底盘面板上,与底盘法兰、底盘面板共同组合成还原炉底盘,所述中心尾气孔位于底盘面板的中心,沿底盘面板的中心向外依次设有5环电极孔,各环电极孔呈同心圆,所述进料喷嘴设有4环,各环进料喷嘴设置在相邻两环电极孔之间,所述外圈尾气孔按环形分布在底盘面板的最外圈。本实用新型对还原反应过程中产生的各种热量进行整合,充分利用硅棒间的热辐射,在有效提高还原炉单炉产能的前提下,降低电耗,提升品质,提供一种稳定的大型多晶硅还原炉,从而大幅降低多晶硅生产成本。
技术领域
本实用新型涉及改良西门子法生产多晶硅技术领域,具体涉及一种70对棒多晶硅还原炉底盘。
背景技术
改良西门子法生产多晶硅是国内、国际上生产多晶硅的主流成熟工艺:以高纯三氯氢硅为原料,在1100℃左右的高纯硅芯上利用高纯氢气将其还原,硅芯在高温发热情况下进行生长单质硅,得到多晶硅棒状产品,其中还原炉是该工艺的核心设备。
目前应用最为成熟的是40对棒还原炉,以及少部分72对棒还原炉。但是40对棒的产量相对较低,电耗也相对高一些;而72对棒运行较不稳定,产品质量较差。因此为解决上述问题,有必要开发一种大型的,高产节能的还原炉,合理的进行底盘布置,充分利用热辐射,进一步降低还原炉运行电耗,提升国内多晶硅行业竞争力。
实用新型内容
本实用新型的目的在于克服上述不足,提供了一种70对棒多晶硅还原炉底盘,以解决现有还原炉产量低,电耗高等问题。
本实用新型的目的是这样实现的:
一种70对棒多晶硅还原炉底盘,包括底盘法兰、底盘面板、中心尾气孔、电极孔、进料喷嘴和外圈尾气孔,所述中心尾气孔、电极孔、进料喷嘴和外圈尾气孔按设计要求分布在底盘面板上,与底盘法兰、底盘面板共同组合成还原炉底盘,所述中心尾气孔位于底盘面板的中心,沿底盘面板的中心向外依次设有5环电极孔,各环电极孔呈同心圆,所述进料喷嘴设有4环,各环进料喷嘴设置在相邻两环电极孔之间,所述外圈尾气孔按环形分布在底盘面板的最外圈。
优选的,由内向外,各环电极孔数量分别为12、20、28、36、44。
优选的,由内向外,各环进料喷嘴数量分别为6、12、12、16。
优选的,各环的电极孔采用同圈的相邻两个电极孔搭接。
优选的,相邻两个电极孔的距离在200-250mm之间调整。
优选的,相邻两个电极孔的距离采用235mm。
优选的,最外圈每个电极孔中心与还原炉的炉筒内壁之间的距离相等。
本实用新型的有益效果是:
本实用新型对还原反应过程中产生的各种热量进行整合,充分利用硅棒间的热辐射,在有效提高还原炉单炉产能的前提下,降低电耗,提升品质,提供一种稳定的大型多晶硅还原炉,设备投资低,操作难度小,从而大幅降低多晶硅生产成本。
附图说明
图1为本实用新型的结构示意图。
其中:1、底盘法兰;2、底盘面板;3、中心尾气孔;4、电极孔;5、进料喷嘴;6、外圈尾气孔。
具体实施方式
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