[实用新型]一种圆柱旋转式矩形磁条磁控溅射靶

说明书

本实用新型涉及磁控溅射镀膜设备技术领域，公开了一种圆柱旋转式矩形磁条磁控溅射靶，包括靶支架，所述靶支架的一侧上部设置连接有注水口，且靶支架的一侧下部固定连接有电机，所述靶支架的另一侧设置连接有靶腔，且靶支架的内部固定连接有靶旋转结构，所述靶腔的两侧固定连接有外齿轮，且靶腔的内部固定连接有靶材，所述注水口的一侧固定连接有进水管，所述进水管的一侧固定连接有冷却水管。本实用新型通过注水口、进水管、冷却水管、电机、转轴、第二齿轮、第一齿轮、靶旋转结构和靶腔，在电机的作用下，带动转轴的旋转，从而带动第二齿轮的旋转，使得第一齿轮受到第二齿轮旋转的力带动靶旋转结构的运转，便于工作人员的使用。

技术领域

本实用新型涉及磁控溅射镀膜设备技术领域，具体是一种圆柱旋转式矩形磁条磁控溅射靶。

背景技术

随着全球制造业高速发展，真空镀膜技术应用越来越广泛。从半导体集成电路、LED、显示器、触摸屏、太阳能光伏、化工、制药等行业的发展来看，对真空镀膜设备、技术、材料需求都在不断增加，真空镀膜机主要指一类需要在较高真空下进行的镀膜，镀膜种类分为多种，包括真空电阻加热蒸发、电子枪加热蒸发、磁控溅射、MBE分子束外延、PLD激光溅射沉积、离子束溅射等多种，主要分成蒸发和溅射两种。因此，市场上出现了一种圆柱旋转式矩形磁条磁控溅射靶被人们广泛使用。

目前市场上存在多种圆柱旋转式矩形磁条磁控溅射靶，但是这些圆柱旋转式矩形磁条磁控溅射靶使用起来多有不便，沉积速率低，且靶面刻蚀不均匀，不能满足人们对圆柱旋转式矩形磁条磁控溅射靶的要求。因此，本领域技术人员提供了一种圆柱旋转式矩形磁条磁控溅射靶，以解决上述背景技术中提出的问题。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种圆柱旋转式矩形磁条磁控溅射靶，以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：

一种圆柱旋转式矩形磁条磁控溅射靶，包括靶支架，所述靶支架的一侧上部设置连接有注水口，且靶支架的一侧下部固定连接有电机，所述靶支架的另一侧设置连接有靶腔，且靶支架的内部固定连接有靶旋转结构，所述靶腔的两侧固定连接有外齿轮，且靶腔的内部固定连接有靶材。

作为本实用新型再进一步的方案：所述注水口的一侧固定连接有进水管，所述进水管的一侧固定连接有冷却水管。

作为本实用新型再进一步的方案：所述冷却水管的外侧固定连接有极靴，所述极靴的外侧固定连接有若干个磁铁块。

作为本实用新型再进一步的方案：所述靶旋转结构的一侧固定连接有第一齿轮。

作为本实用新型再进一步的方案：所述电机一侧固定连接有转轴，所述转轴的一侧固定连接有第二齿轮。

作为本实用新型再进一步的方案：所述进水管与冷却水管之间固定连接有加固片。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：

1、通过注水口、进水管、冷却水管、电机、转轴、第二齿轮、第一齿轮、靶旋转结构和靶腔，靶旋转结构的一侧设置有第一齿轮，第一齿轮与第二齿轮进行卡接，在电机的作用下，带动转轴的旋转，从而带动第二齿轮的旋转，使得第一齿轮受到第二齿轮旋转的力带动靶旋转结构的运转，从而带动靶腔的运转，将冷却水从注水口注入，通过进水管流入冷却水管内部，从而对靶腔内部进行降温冷却，方便了工作人员的使用。

2、通过靶材、磁铁块和极靴，靶腔相对于磁铁块转动，磁铁块安装在极靴上与靶管同心，磁力线从N极出发，穿过靶管，再回到极靴，这样就在靶管圆柱面上形成了封闭的磁力线长环形跑道，由于靶管是相对于同心磁铁块匀速转动，所以靶管表面形成了均匀的刻蚀区，磁铁块采用N极和S极磁铁，使得磁力可以两两抵消，减弱磁强度，当刻蚀不均、沉积速率、溅射效率不理想的时候，可以通过增减磁铁块数量来弥补此缺陷，提高该装置的实用性，方便了工作人员的使用。

附图说明