[实用新型]器件连接结构和半导体有效
申请号: | 202022557088.0 | 申请日: | 2020-11-06 |
公开(公告)号: | CN213212160U | 公开(公告)日: | 2021-05-14 |
发明(设计)人: | 刘学刚;王新月;孙娜娜 | 申请(专利权)人: | 泉芯集成电路制造(济南)有限公司 |
主分类号: | H01L23/538 | 分类号: | H01L23/538 |
代理公司: | 北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙) 11463 | 代理人: | 严诚 |
地址: | 250000 山东省济南市*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 器件 连接 结构 半导体 | ||
1.一种器件连接结构,其特征在于,所述器件连接结构包括:
基板(110);
分布在所述基板(110)上的多个器件(120);
覆盖在多个所述器件(120)上的导体层(130),所述导体层(130)与多个所述器件(120)电连接,所述导体层(130)上开设有至少一个镂空区(131),所述镂空区(131)位于相邻的所述器件(120)之间。
2.根据权利要求1所述的器件连接结构,其特征在于,所述导体层(130)上远离所述器件(120)的表面为轴对称形状。
3.根据权利要求1所述的器件连接结构,其特征在于,所述导体层(130)上远离所述器件(120)的表面为中心对称形状。
4.根据权利要求1所述的器件连接结构,其特征在于,所述器件(120)在所述基板(110)上呈环状排布,所述镂空区(131)的数量为一个、且位于所述环状的中心位置。
5.根据权利要求1所述的器件连接结构,其特征在于,所述器件(120)呈矩阵形式排布,相邻两行所述器件(120)之间的区域和/或相邻两列所述器件(120)之间的区域开设有所述镂空区(131)。
6.根据权利要求5所述的器件连接结构,其特征在于,每相邻两行所述器件(120)之间的区域开设有一个所述镂空区(131),所述镂空区(131)沿行的长度方向延伸,所述镂空区(131)的长度小于每行的长度。
7.根据权利要求6所述的器件连接结构,其特征在于,相邻两个所述镂空区(131)错位设置。
8.根据权利要求5所述的器件连接结构,其特征在于,每相邻两行所述器件(120)之间的区域开设有两个间隔的所述镂空区(131),两个所述镂空区(131)分别分布在所述导体层(130)的两侧、且均延伸至所述导体层(130)的边缘。
9.根据权利要求5所述的器件连接结构,其特征在于,所述器件(120)的行数为M,前N行所述器件(120)中,相邻两行所述器件(120)之间的区域,后M-N行所述器件(120)中,相邻两列所述器件(120)之间的区域开设有所述镂空区(131),其中,M、N均为正整数,M大于N。
10.一种半导体,其特征在于,所述半导体包括权利要求1~9任一项所述的器件连接结构。
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