[实用新型]一种可调节式单晶炉坩埚

权利要求书

1.一种可调节式单晶炉坩埚，包括基座(1)，其特征在于：所述基座(1)上端固定设置有坩埚底部调节机构(2)，所述坩埚底部调节机构(2)包括导轨座(32)，所述导轨座(32)侧壁固定设置有丝杆(33)，所述丝杆(33)侧壁通过螺纹套活动连接有坩埚轴(35)，所述坩埚轴(35)上端外侧固定设置有波纹管(36)，所述坩埚轴(35)下端外侧固定设置有埚转磁流体(37)，所述埚转磁流体(37)远离导轨座(32)的一端固定设置有埚转电机(38)，所述坩埚轴(35)下端固定连接有旋转接头(39)，所述坩埚底部调节机构(2)上端固定设置有主坩埚炉室(3)，所述主坩埚炉室(3)侧壁上端固定设置有气压表(9)，所述主坩埚炉室(3)上端固定设置有炉盖(4)，所述炉盖(4)上端固定设置有隔离阀座(5)，所述隔离阀座(5)前端固定设置有圆门(12)，所述圆门(12)中部固定设置有圆形观察窗(13)，所述隔离阀座(5)上端固定设置有副坩埚炉室(6)，所述副坩埚炉室(6)内部固定设置有箱体(23)，所述箱体(23)上端面一侧固定设置有蜗轮减速箱(25)，所述蜗轮减速箱(25)的输入端固定连接有伺服电机(24)，所述蜗轮减速箱(25)的输出端固定连接有输出轴(26)，所述输出轴(26)远离蜗轮减速箱(25)的一端固定连接有小带轮(27)，所述箱体(23)远离蜗轮减速箱(25)的一端内部固定设置有铜套(28)，所述铜套(28)上端外侧固定设置有盖板(29)，所述铜套(28)外壁固定连接有大带轮(30)，所述大带轮(30)和小带轮(27)之间固定设置有同步带(31)，所述副坩埚炉室(6)上端固定设置有晶体提升旋转机构(15)。

2.根据权利要求1所述的一种可调节式单晶炉坩埚，其特征在于：所述坩埚底部调节机构(2)底部两侧均固定设置有调整垫铁(34)。

3.根据权利要求1所述的一种可调节式单晶炉坩埚，其特征在于：所述晶体提升旋转机构(15)包括晶升底板(19)，所述晶升底板(19)下端固定设置有晶转磁流体(16)、导电滑环(17)和晶转电机(18)，所述晶升底板(19)上端固定设置有慢速电机(20)、快速电机(21)和称重装置(22)。

4.根据权利要求1所述的一种可调节式单晶炉坩埚，其特征在于：所述主坩埚炉室(3)前端面上部固定设置有测温计窗口(7)。

5.根据权利要求1所述的一种可调节式单晶炉坩埚，其特征在于：所述炉盖(4)前端固定设置有操作者观察窗(10)。

6.根据权利要求1所述的一种可调节式单晶炉坩埚，其特征在于：所述隔离阀座(5)一侧壁固定设置有两个籽晶位置检测窗口(11)。

7.根据权利要求1所述的一种可调节式单晶炉坩埚，其特征在于：所述副坩埚炉室(6)前端面上部固定设置有圆形法兰(14)，所述圆形法兰(14)中部固定设置有圆形观察窗(13)。

8.根据权利要求1所述的一种可调节式单晶炉坩埚，其特征在于：所述主坩埚炉室(3)侧部固定设置有控制箱(8)，所述控制箱(8)与坩埚底部调节机构(2)、主坩埚炉室(3)、隔离阀座(5)、副坩埚炉室(6)和晶体提升旋转机构(15)内部均电性连接。