[实用新型]基板冷热处理装置

说明书

本实用新型涉及基板处理技术领域，具体为一种基板冷热处理装置，包括支撑杆、下支撑板、上支撑板、框架、水箱、加热器以及空调，所述支撑杆位于下支撑板的下端，所述上支撑板位于下支撑板的上端，所述下支撑板上设有第二电热管、支撑部以及冷凝管，并且所述上支撑板与下支撑板之间设有连接杆，通过支撑杆支撑下支撑板，通过连接杆使上支撑板固定在下支撑板的上端，所述框架、水箱、加热器以及空调均位于下支撑板的左侧，所述水箱位于框架的底端，所述加热器安装在水箱的上端，所述空调安装在加热器的上端，通过加热器使第二电热管进行加热，通过水箱使冷凝管具有冷却的效果，通过支撑部支撑基板，使基板固定。

技术领域

本实用新型涉及基板处理技术领域，具体为一种基板冷热处理装置。

背景技术

众所周知，一般基板在曝光后要进行加热速冷工艺，加热是为了消除驻波效应及进行光酸放大反应，冷却是为了降低光阻温度停止光酸扩散反应，提高制成稳定性。

例如公开号为“CN103426793B”专利名称为：“基板冷热处理装置”的专利，专利公开了“本实用新型涉及对半导体晶片和液晶显示装置用的玻璃基板(以下简称为基板)等基板进行处理的装置，具体地说是一种基板冷热处理装置，包括承载基板的支撑板，该支撑板内埋设有电阻丝并开有供冷却流体流过的冷却槽；所述电阻丝与电源连接，为基板加热；所述支撑板的上表面均布有多个的支撑部，基板支撑在该支撑部上，与所述支撑板的上表面留有间隙。所述支撑板沿高度方向均布有多个贯通孔，每个贯通孔内均插设有支撑杆，所述支撑杆的下端连接在升降机构上，顶端突出于支撑板的上表面。本实用新型的支撑板集加热、冷却功能于一体，使得在实现多工艺处理的同时减小了设备的尺寸(省略了传统的导轨等部件)”。

现有的基板冷热处理装置大多是先将基板放入热盘中加热后再利用导轨将冷盘移动到热盘的上面对基板进行冷却，这样装置的尺寸为热盘加上冷盘的大小，尺寸变得很大，从而使装置的占地面积增加，并且在实际操作中的冷热处理效果一般，实用性低。

实用新型内容

(一)解决的技术问题

针对现有技术的不足，本实用新型提供了一种占地面积小，冷热处理一体化，并且处理效率高的基板冷热处理装置。

(二)技术方案

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种基板冷热处理装置，包括支撑杆、下支撑板、上支撑板、框架、水箱、加热器、法兰以及空调，所述支撑杆位于下支撑板的下端，所述上支撑板位于下支撑板的上端，所述下支撑板上设有第二电热管、支撑部以及冷凝管，所述第二电热管以及冷凝管交叉盘绕在下支撑板上，并且下半部分位于下支撑板的内部，所述支撑部位于支撑板的中间部分，并且所述支撑部上用于设置基板，所述上支撑板设有第一电热管以及冷风管，所述第一电热管以及冷风管交叉盘绕在上支撑板上，并且所述第一电热管以及冷风管的上半部分均位于上支撑板的内部，所述框架、水箱、加热器以及空调均位于下支撑板的左侧，所述水箱位于框架的底端，所述加热器安装在水箱的上端，所述空调安装在加热器的上端，所述空调上设有进风管，所述进风管通过法兰连接冷风管，所述冷风管上设有冷风孔，所述加热器上设有导线管，所述导线管的内部设有导线，所述导线管通过导线分别连接第一电热管以及第二电热管。

为使得处理效率进一步提高，本实用新型的改进有，所述上支撑板与下支撑板之间设有连接杆；所述水箱设有制冷器、进水管、回水管以及水泵，所述制冷器安装在水箱的内部。

为使得装置结构更加紧凑，本实用新型的改进有，所述进水管连接冷凝管的一端，所述回水管连接冷凝管的另一端，所述水泵通过螺栓安装在进水管上。

为了提高空调、加热器以及水箱的稳定性，本实用新型的改进有，所述框架上设有存放板，并且设有多个，所述存放板上设有卡槽，所述空调、加热器以及水箱的底端均设有卡块，所述空调、加热器以及水箱通过卡块安装在存放板上。

为了使本结构能自由移动，本实用新型的改进有，所述支撑杆的下端设有底轮，并且所述底轮通过螺栓连接支撑杆。