[实用新型]一种用于晶圆光刻的盖盘有效
申请号: | 202022599911.4 | 申请日: | 2020-11-11 |
公开(公告)号: | CN213987169U | 公开(公告)日: | 2021-08-17 |
发明(设计)人: | 姚力军;边逸军;潘杰;王学泽;陈春磊 | 申请(专利权)人: | 宁波江丰电子材料股份有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 北京远智汇知识产权代理有限公司 11659 | 代理人: | 王岩 |
地址: | 315400 浙江省宁波市*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 用于 圆光 | ||
1.一种用于晶圆光刻的盖盘,其特征在于,所述盖盘为凹型结构;
所述凹型结构的底部设置有凹槽;
所述凹槽中心处设置有通孔;
所述凹型结构的中心线和所述凹槽的中心线相重合;
所述凹型结构的侧面距离所述凹型结构的底面6-7mm的位置设置有与所述凹型结构的底面相平行的长方形通孔。
2.如权利要求1所述的用于晶圆光刻的盖盘,其特征在于,所述凹型结构的内径为330-333mm。
3.如权利要求1或2所述的用于晶圆光刻的盖盘,其特征在于,所述凹型结构的垂直深度为19-20mm。
4.如权利要求3所述的用于晶圆光刻的盖盘,其特征在于,所述凹槽的直径为320-325mm。
5.如权利要求1或4所述的用于晶圆光刻的盖盘,其特征在于,所述凹槽的垂直深度为2.5-3.5mm。
6.如权利要求5所述的用于晶圆光刻的盖盘,其特征在于,所述通孔的直径为40-43mm。
7.如权利要求1或6所述的用于晶圆光刻的盖盘,其特征在于,所述长方形通孔至少设置34个。
8.如权利要求7所述的用于晶圆光刻的盖盘,其特征在于,所述长方形通孔的长度为20-22mm。
9.如权利要求1或8所述的用于晶圆光刻的盖盘,其特征在于,所述长方形通孔的高度为1.8-2.5mm。
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