[实用新型]CVD处理系统有效
申请号: | 202022618984.3 | 申请日: | 2020-11-13 |
公开(公告)号: | CN213507189U | 公开(公告)日: | 2021-06-22 |
发明(设计)人: | 张森;费磊 | 申请(专利权)人: | 宁波沁圆科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/458 | 分类号: | C23C16/458;C23C16/54 |
代理公司: | 北京金咨知识产权代理有限公司 11612 | 代理人: | 宋教花 |
地址: | 315400 浙江省*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | cvd 处理 系统 | ||
1.一种CVD处理系统,其特征在于,所述系统包括:放片子系统、反应腔和取片子系统,
所述放片子系统包括放片腔、放片传送腔和放片传输组件,所述放片传送腔位于所述放片腔和反应腔之间,所述放片传输组件位于所述放片传送腔内,所述放片传输组件用于将所述放片腔内的托盘及衬底输送至所述反应腔;
所述取片子系统包括取片腔、取片传送腔和取片传输组件,所述取片传送腔位于所述反应腔与所述取片腔之间,所述取片传输组件位于所述取片传送腔内,所述取片传输组件用于将所述反应腔内的托盘及衬底输送至所述取片腔;
其中,所述放片传送腔和所述取片传送腔位于所述反应腔的不同侧。
2.根据权利要求1所述的CVD处理系统,其特征在于,所述反应腔内设有用于支撑所述托盘的托盘支撑体和用于加热所述托盘的加热装置,所述托盘支撑体可做旋转运动。
3.根据权利要求1所述的CVD处理系统,其特征在于,所述放片腔和所述放片传送腔之间具有第一闸板阀,所述放片传送腔与所述反应腔之间设有第二闸板阀,所述反应腔与所述取片传送腔之间设有第三闸板阀,所述取片传送腔与所述取片腔之间设有第四闸板阀。
4.根据权利要求3所述的CVD处理系统,其特征在于,所述放片腔的与所述第一闸板阀相对的一侧设有第五闸板阀;所述取片腔的与所述第四闸板阀相对的一侧设有第六闸板阀。
5.根据权利要求1所述的CVD处理系统,其特征在于,所述放片腔设有真空抽口。
6.根据权利要求1所述的CVD处理系统,其特征在于,所述反应腔设有反应气体输入口。
7.根据权利要求1至6中任意一项所述的CVD处理系统,其特征在于,所述放片传输组件和所述取片传输组件均包括用于抓取所述托盘和衬底的机械手以及用于控制所述机械手运动的机械臂。
8.根据权利要求7所述的CVD处理系统,其特征在于,所述反应腔的数量为两个,两个所述反应腔位于所述放片传送腔的同一侧,且两个所述反应腔与所述放片传送腔之间均具有第二闸板阀,两个所述反应腔与所述取片传送腔之间均具有第三闸板阀。
9.根据权利要求8所述的CVD处理系统,其特征在于,
所述放片传送腔的数量为一个,所述放片传输组件包括两个机械手,两个所述机械手位于同一个放片传送腔内;或
所述放片传送腔的数量为两个,所述放片传输组件包括两个机械手,两个所述机械手分别位于两个所述放片传送腔内。
10.根据权利要求8所述的CVD处理系统,其特征在于,
所述取片传送腔的数量为一个,所述取片传输组件包括两个机械手,两个所述机械手位于同一个所述取片传送腔内;或
所述取片传送腔的数量为两个,所述取片传输组件包括两个机械手,两个所述机械手分别位于两个所述取片传送腔内。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的