[实用新型]一种微晶磷铜球的清洗装置

权利要求书

1.一种微晶磷铜球的清洗装置，包括第一机座与第二机座，其特征在于：所述第一机座与第二机座之间设有过料机座，所述第一机座内开有可供微晶磷铜球通过第一通道，所述第二机座内开有可供微晶磷铜球通过的第二通道，所述过料机座的内部为中空结构，所述过料机座的左侧上开有通向过料机座内部的入料口，所述过料机座的右侧上开有通向过料机座内部的出料口，所述第一通道与第二通道均为倾斜设置，所述第一通道上低的一端与入料口相接通，所述第二通道上高的一端与出料口相接通，所述第一机座在靠近于入料口的位置上设有间断推料机构，所述第一机座上设有进水管，所述进水管上连接有出水喷头，所述出水喷头设置在第一通道上方，所述过料机座内部设有电机及可弹性变形的胶套，所述电机设置在胶套内侧位置上，所述电机上连接有若干个用于向外将胶套局部顶出的弧形外凸块，所述过料机座内部的上侧内壁上设有吸水层，所述吸水层从入料口上方延伸至出料口上方，所述吸水层与胶套之间具有刚好可供一个微晶磷铜球通过的过料通道，所述过料机座的下侧上设有排水通道，所述胶套与过料机座内部的下侧内壁之间具有分水通道，所述分水通道从出料口的下方延伸至排水通道。

2.根据权利要求1所述一种微晶磷铜球的清洗装置，其特征在于：所述间断推料机构包括有限位座、推块以及气缸，所述限位座设置在第一通道的下方上，所述限位座上具有用于阻止微晶磷铜球向下滚动的弧形限位槽，所述推块设置在限位座的上方，所述气缸与推块相连，所述推块上具有向下移动时将弧形限位槽上的微晶磷铜球推向入料口的倾斜面。

3.根据权利要求1所述一种微晶磷铜球的清洗装置，其特征在于：所述过料机座的外侧壁上设有加热块，所述加热块与吸水层相对应。

4.根据权利要求1所述一种微晶磷铜球的清洗装置，其特征在于：所述吸水层在朝向胶套的面上设有擦拭毛层。

5.根据权利要求1所述一种微晶磷铜球的清洗装置，其特征在于：所述过料机座在出料口的下方位置上设有朝向胶套方向凸出的导出块。

6.根据权利要求1所述一种微晶磷铜球的清洗装置，其特征在于：所述过料机座在位于分水通道下方的侧壁上开有引水槽，所述引水槽至出料口的下方延伸至排水通道。

7.根据权利要求1所述一种微晶磷铜球的清洗装置，其特征在于：所述第一通道与水平线的倾斜角度在5~10°之间。

8.根据权利要求1所述一种微晶磷铜球的清洗装置，其特征在于：所述出水喷头设置有三个。