[实用新型]可吹动粉末的原子层沉积装置有效
申请号: | 202022647429.3 | 申请日: | 2020-11-16 |
公开(公告)号: | CN214088661U | 公开(公告)日: | 2021-08-31 |
发明(设计)人: | 林俊成;张容华;古家诚 | 申请(专利权)人: | 鑫天虹(厦门)科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455;B82Y40/00 |
代理公司: | 北京科龙寰宇知识产权代理有限责任公司 11139 | 代理人: | 孙皓晨 |
地址: | 361101 福建省厦门市厦门火*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 吹动 粉末 原子 沉积 装置 | ||
本实用新型提供一种可吹动粉末的原子层沉积装置,主要包括一真空腔体、一轴封装置及一驱动单元,其中驱动单元通过轴封装置带动真空腔体转动。轴封装置包括一外管体及一内管体,其中内管体设置在外管体的容置空间内。至少一抽气管线及至少一进气管线位于内管体内,其中进气管线由内管体延伸置反应空间内,并用以将一非反应气体输送至反应空间,以吹动反应空间内的粉末。
技术领域
本实用新型有关于一种可吹动粉末的原子层沉积装置,其中至少一进气管线由轴封装置延伸至真空腔体的反应空间内,并用以将一非反应气体输送至反应空间,以吹动反应空间内的粉末。
背景技术
奈米颗粒(nanoparticle)一般被定义为在至少一个维度上小于100奈米的颗粒,奈米颗粒与宏观物质在物理及化学上的特性截然不同。一般而言,宏观物质的物理特性与本身的尺寸无关,但奈米颗粒则非如此,奈米颗粒在生物医学、光学和电子等领域都具有潜在的应用。
量子点(Quantum Dot)是半导体的奈米颗粒,目前研究的半导体材料为II-VI材料,如ZnS、CdS、CdSe等,其中又以CdSe最受到瞩目。量子点的尺寸通常在2至50奈米之间,量子点被紫外线照射后,量子点中的电子会吸收能量,并从价带跃迁到传导带。被激发的电子从传导带回到价带时,会通过发光释放出能量。
量子点的能隙与尺寸大小相关,量子点的尺寸越大能隙越小,经照射后会发出波长较长的光,量子点的尺寸越小则能隙越大,经照射后会发出波长较短的光。例如5到6奈米的量子点会发出橘光或红光,而2到3奈米的量子点则会发出蓝光或绿光,当然光色取决于量子点的材料组成。
应用量子点的发光二极体(LED)产生的光可接近连续光谱,同时具有高演色性,并有利于提高发光二极体的发光品质。此外亦可通过改变量子点的尺寸调整发射光的波长,使得量子点成为新一代发光装置及显示器的发展重点。
量子点虽然具有上述的优点及特性,但在应用或制造的过程中容易产生团聚现象。此外量子点具有较高的表面活性,并容易与空气及水气发生反应,进而缩短量子点的寿命。
具体来说,将量子点制作成为发光二极体的密封胶时,可能会产生团聚效应,而降低了量子点的光学性能。此外,量子点在制作成发光二极体的密封胶后,外界的氧或水气仍可能会穿过密封胶而接触量子点的表面,导致量子点氧化,并影响量子点及发光二极体的效能或使用寿命。量子点的表面缺陷及悬空键(dangling bonds)亦可能造成非辐射复合(nonradiative recombination),同样会影响量子点的发光效率。
目前业界主要通过原子层沉积(atomic layer deposition,ALD)在量子点的表面形成一层奈米厚度的薄膜,或者是在量子点的表面形成多层薄膜,以形成量子井结构。
原子层沉积可以在基板上形成厚度均匀的薄膜,并可有效控制薄膜的厚度,理论上亦适用于三维的量子点。量子点静置在承载盘时,相邻的量子点之间会存在接触点,使得原子层沉积的前驱物无法接触这些接触点,并导致无法在所有的奈米颗粒的表面皆形成厚度均匀的薄膜。
实用新型内容
为了解决上述先前技术面临的问题,本实用新型提出一种可吹动粉末的原子层沉积装置,其中至少一进气管线由轴封装置延伸至真空腔体的反应空间内,并通过进气管线吹出的非反应气体吹动反应空间内的粉末,以利于在各个粉末的表面上形成厚度均匀的薄膜。
本实用新型的一目的,在于提供一种可吹动粉末的原子层沉积装置,主要包括一驱动单元、一轴封装置及一真空腔体,其中真空腔体具有一柱状的反应空间。柱状的反应空间包括两个底面及至少一侧面,其中侧面连接两个底面。设置在轴封装置内的进气管线延伸至反应空间,并朝反应空间的侧面延伸,使得进气管线的出风口靠近位在真空腔体下半部的粉末,并有利于以进气管线输出的非反应气体吹动粉末。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
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C23C16-02 .待镀材料的预处理
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