[实用新型]一种晶圆自动化涂源装置有效
申请号: | 202022649200.3 | 申请日: | 2020-11-16 |
公开(公告)号: | CN214320625U | 公开(公告)日: | 2021-10-01 |
发明(设计)人: | 李健儿;李学良;马晓洁;唐毅;敬毅 | 申请(专利权)人: | 四川洪芯微科技有限公司 |
主分类号: | B05B13/02 | 分类号: | B05B13/02;B05B14/465;B05B16/20;B05D3/02;B05B15/68;H01L21/67 |
代理公司: | 成都睿道专利代理事务所(普通合伙) 51217 | 代理人: | 杨洪婷 |
地址: | 629200 四川*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 自动化 装置 | ||
本实用新型公开了一种晶圆自动化涂源装置,包括传送带和装有扩散源的喷雾装置;还包括,喷雾室壳体,配置于该传送带上方;支架,固定于该喷雾室壳体内壁;锁定机构,与该喷雾装置连接;该喷雾装置枢接于支架,该喷雾装置可绕其枢接中心转动,该锁定机构用于该喷雾装置与该支架之间的相对转动。本实用新型能够根据生产实际调整喷涂角度,以获得所需的涂覆效果。
技术领域
本实用新型涉及硅片加工技术领域,具体而言,涉及一种晶圆自动化涂源装置。
背景技术
在半导体行业,快恢复二极管通过向硅中掺杂铂/金元素降低少数载流子寿命,以满足电路对器件的开关频率需求。铂/金扩散源为液态扩散源,传统的使用方法是扩散前在晶圆表面涂覆扩散源,方法是将晶圆放置在旋转涂布机吸头上,开始旋转时用毛笔蘸取扩散源,从晶圆中心刷向边缘。
现有已公开的专利名称为“一种晶圆自动化涂源装置”、公开号为CN205984910U的中国实用新型专利,该专利设置用于传送晶圆的传送带,沿该传送带传送方向依次设置有喷雾装置和烘干器,该专利使用时通过气压将扩散源经喷雾装置喷出,晶圆由传送皮带承载快速通过喷雾装置下方和烘干器,即可获得涂层均匀性较高的晶圆,大大提高了涂源效率。而且自动化涂源替代人工作业,涂源均匀,一致性好,扩散后器件的逆向恢复时间(TRR)差异小,大幅度提高了铂/金扩散品质。
但是,上述专利无法根据生产实际调整喷涂角度,以获得所需的涂覆效果。
实用新型内容
本实用新型的目的包括提供一种晶圆自动化涂源装置,其针对晶圆自动化涂源装置而设计,能够根据生产实际调整喷涂角度,以获得所需的涂覆效果。
本实用新型的实施例通过以下技术方案实现:
一种晶圆自动化涂源装置,包括传送带和装有扩散源的喷雾装置;还包括,喷雾室壳体,配置于该传送带上方;支架,固定于该喷雾室壳体内壁;锁定机构,与该喷雾装置连接;该喷雾装置枢接于支架,该喷雾装置可绕其枢接中心转动,该锁定机构用于该喷雾装置与该支架之间的相对转动。
在本实用新型的一实施例中,还包括,水帘装置,配置于该喷雾室壳体、用于向该喷雾室壳体侧壁喷水。
在本实用新型的一实施例中,还包括,烘干装置,用于烘干涂源后的晶圆。
在本实用新型的一实施例中,烘干室壳体,配置于所述传送带上方;所述烘干装置固定于该烘干室壳体内。
在本实用新型的一实施例中,所述喷雾装置配置有与所述支架连接的螺杆;所述锁定机构配置为锁定螺母,该锁定螺母螺纹连接于该螺杆。
在本实用新型的一实施例中,所述水帘装置包括水帘喷嘴和水帘管架,该水帘管架固定于所述喷雾室壳体顶部,该水帘管架靠近该喷雾室壳体侧壁设置,该水帘喷嘴配置于该水帘管架。
在本实用新型的一实施例中,还包括,放片装置,配置于所述传送带的输入端;收片装置,配置于所述传送带的输出端。
在本实用新型的一实施例中,所述喷雾装置配置有喷雾喷嘴。
在本实用新型的一实施例中,所述烘干装置配置为具有强制排风的红外线烘干器。
本实用新型实施例的技术方案至少具有如下优点和有益效果:
本实用新型实施例通过设置喷雾室壳体,在喷雾室壳体内设置支架,在喷雾装置上设置螺杆,利用螺杆实现与支架的枢接,并利用锁定螺母实现喷雾装置的锁定,在实际生产时,可根据晶圆表面涂层的涂覆效果调整喷雾装置的喷涂角度,以获得所需的涂覆效果。
附图说明
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