[实用新型]一种膜层沉积腔室及磁控溅射设备

权利要求书

1.一种膜层沉积腔室，内部适于通过载板(2)并对载板(2)上的工件进行成膜，其特征在于，包括：

壳体(1)，所述壳体(1)上设置有观察窗(3)，所述观察窗(3)提供用于观察所述壳体(1)内的载板(2)的窗口；

遮挡板(4)，可移动的设置在所述壳体(1)的内部，所述遮挡板(4)相对于所述观察窗(3)具有遮挡位置和打开位置，所述遮挡板(4)在遮挡位置用于遮挡所述观察窗(3)对所述壳体(1)内的观察；所述遮挡板(4)在打开位置移开对所述观察窗(3)的遮挡，以便于通过观察窗(3)对所述壳体(1)内进行观察。

2.根据权利要求1所述膜层沉积腔室，其特征在于，所述遮挡板(4)相对于所述观察窗(3)的透明片(11)为倾斜设置。

3.根据权利要求1所述膜层沉积腔室，其特征在于，所述壳体内设置有：

滑轨(10)，所述滑轨(10)设置在所述壳体(1)内表面，所述遮挡板设置于所述滑轨(10)上，且所述滑轨(10)的路径至少覆盖对应所述观察窗(3)的前方；

驱动装置(9)，固定设置在所述壳体的内表面上，所述驱动装置(9)的驱动端与所述遮挡板固定连接，所述遮挡板通过所述驱动装置(9)的驱动在所述遮挡位置和所述打开位置之间移动。

4.根据权利要求1-3中任一项所述膜层沉积腔室，其特征在于，还包括：

清洁器，相对于所述观察窗(3)固定设置在所述壳体(1)内，所述清洁器具有中空结构的管道以及位于所述管道终端的清洁部(6)，用于对所述观察窗(3)的表面进行吹扫。

5.根据权利要求4所述膜层沉积腔室，其特征在于，所述清洁部(6)朝向所述观察窗(3)，并通过所述管道(7)与位于所述壳体(1)外部的吹扫气体连通。

6.根据权利要求4所述膜层沉积腔室，其特征在于，所述清洁部(6)具有至少一个朝向所述观察窗(3)的出气孔，所述出气孔的内径沿朝向所述观察窗(3)的方向为逐渐变小。

7.根据权利要求4所述膜层沉积腔室，其特征在于，所述管道(7)的位于所述壳体(1)外的部分设置有阀门，所述阀门用于控制通过所述管道(7)进入所述壳体(1)内的吹扫气体的通断。

8.根据权利要求7所述膜层沉积腔室，其特征在于，所述阀门为电磁阀(8)，所述电磁阀(8)通过电信号与控制器连接，所述电磁阀(8)用于控制通过所述管道(7)进入所述壳体(1)内的吹扫气体的通断。

9.根据权利要求1-3中任一项所述膜层沉积腔室，其特征在于，所述观察窗(3)上的透明片(11)相对于所述壳体(1)的外表面为倾斜设置或平行设置。

10.一种磁控溅射设备，其特征在于，包括权利要求1-9中任一项所述的膜层沉积腔室。