[实用新型]一种膜层沉积腔室及磁控溅射设备有效
申请号: | 202022652563.2 | 申请日: | 2020-11-16 |
公开(公告)号: | CN213507174U | 公开(公告)日: | 2021-06-22 |
发明(设计)人: | 不公告发明人 | 申请(专利权)人: | 宣城睿晖宣晟企业管理中心合伙企业(有限合伙) |
主分类号: | C23C14/35 | 分类号: | C23C14/35;C23C14/52;C23C14/56 |
代理公司: | 北京三聚阳光知识产权代理有限公司 11250 | 代理人: | 秦广成 |
地址: | 242074 安徽省宣城市经济*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 沉积 磁控溅射 设备 | ||
1.一种膜层沉积腔室,内部适于通过载板(2)并对载板(2)上的工件进行成膜,其特征在于,包括:
壳体(1),所述壳体(1)上设置有观察窗(3),所述观察窗(3)提供用于观察所述壳体(1)内的载板(2)的窗口;
遮挡板(4),可移动的设置在所述壳体(1)的内部,所述遮挡板(4)相对于所述观察窗(3)具有遮挡位置和打开位置,所述遮挡板(4)在遮挡位置用于遮挡所述观察窗(3)对所述壳体(1)内的观察;所述遮挡板(4)在打开位置移开对所述观察窗(3)的遮挡,以便于通过观察窗(3)对所述壳体(1)内进行观察。
2.根据权利要求1所述膜层沉积腔室,其特征在于,所述遮挡板(4)相对于所述观察窗(3)的透明片(11)为倾斜设置。
3.根据权利要求1所述膜层沉积腔室,其特征在于,所述壳体内设置有:
滑轨(10),所述滑轨(10)设置在所述壳体(1)内表面,所述遮挡板设置于所述滑轨(10)上,且所述滑轨(10)的路径至少覆盖对应所述观察窗(3)的前方;
驱动装置(9),固定设置在所述壳体的内表面上,所述驱动装置(9)的驱动端与所述遮挡板固定连接,所述遮挡板通过所述驱动装置(9)的驱动在所述遮挡位置和所述打开位置之间移动。
4.根据权利要求1-3中任一项所述膜层沉积腔室,其特征在于,还包括:
清洁器,相对于所述观察窗(3)固定设置在所述壳体(1)内,所述清洁器具有中空结构的管道以及位于所述管道终端的清洁部(6),用于对所述观察窗(3)的表面进行吹扫。
5.根据权利要求4所述膜层沉积腔室,其特征在于,所述清洁部(6)朝向所述观察窗(3),并通过所述管道(7)与位于所述壳体(1)外部的吹扫气体连通。
6.根据权利要求4所述膜层沉积腔室,其特征在于,所述清洁部(6)具有至少一个朝向所述观察窗(3)的出气孔,所述出气孔的内径沿朝向所述观察窗(3)的方向为逐渐变小。
7.根据权利要求4所述膜层沉积腔室,其特征在于,所述管道(7)的位于所述壳体(1)外的部分设置有阀门,所述阀门用于控制通过所述管道(7)进入所述壳体(1)内的吹扫气体的通断。
8.根据权利要求7所述膜层沉积腔室,其特征在于,所述阀门为电磁阀(8),所述电磁阀(8)通过电信号与控制器连接,所述电磁阀(8)用于控制通过所述管道(7)进入所述壳体(1)内的吹扫气体的通断。
9.根据权利要求1-3中任一项所述膜层沉积腔室,其特征在于,所述观察窗(3)上的透明片(11)相对于所述壳体(1)的外表面为倾斜设置或平行设置。
10.一种磁控溅射设备,其特征在于,包括权利要求1-9中任一项所述的膜层沉积腔室。
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