[实用新型]一种膜层沉积腔室及磁控溅射设备

说明书

本实用新型提供一种膜层沉积腔室及磁控溅射设备，属于物理气相沉积设备技术领域，其中膜层沉积腔室，包括：壳体，壳体上设置有观察窗，观察窗提供用于观察壳体内的载板的窗口；遮挡板，可移动的设置在壳体的内部，遮挡板相对于观察窗具有遮挡位置和打开位置，遮挡板在遮挡位置用于遮挡观察窗对壳体内的观察；遮挡板在打开位置移开对观察窗的遮挡，以便于通过观察窗对壳体内进行观察。本实用新型的膜层沉积腔室，通过遮挡板使腔室在用于进行磁控溅射时，靶材材料、灰尘及其他杂质不容易落在观察窗上，当需要通过观察窗对腔室内部进行观察时，通过移动遮挡板，能够看到壳体内部的载板，从而改善了观察窗容易被污染的问题。

技术领域

本实用新型涉及物理气相沉积设备技术领域，具体涉及一种膜层沉积腔室及磁控溅射设备。

背景技术

磁控溅射是物理气相沉积(Physical Vapor Deposition，PVD)的一种，磁控溅射是入射粒子和靶的碰撞过程，入射粒子在靶中经历复杂的散射过程，和靶原子碰撞，把部分动量传给靶原子，此靶原子又和其他靶原子碰撞，形成级联过程，在这种级联过程中某些表面附近的靶原子获得向外运动的足够动量，离开靶被溅射出来。

现有技术的磁控溅射设备中，往往设置观察窗观测磁控溅射的腔室内的工作状态。但是，此时观察窗为壳体挖孔填充玻璃并与周边密封的一部分，同样会被靶原子污染，观察窗被污染后，控制系统无法检测腔室内有无载板，可能导致堵料或两个载板撞击的严重生产事故，因此需要经常清洁观察窗。

而且，清洁或更换观察窗时需要停止工艺，将真空腔室充大气，更换观察窗重新密封后，再将真空腔室恢复至真空状态。导致清洁或更换观察窗的维护时间很长，而且充气容易污染腔室环境，对恢复工艺环境具有一定影响。

实用新型内容

因此，本实用新型要解决的技术问题在于克服现有技术中的用于磁控溅射的腔室的观察窗容易被污染的缺陷，从而提供一种膜层沉积腔室以及具有上述膜层沉积腔室的磁控溅射设备。

为了解决上述技术问题，本实用新型提供一种膜层沉积腔室，内部适于通过载板并对载板上的工件进行成膜，包括：

壳体，所述壳体上设置有观察窗，所述观察窗提供用于观察所述壳体内的载板的窗口；

遮挡板，可移动的设置在所述壳体的内部，所述遮挡板相对于所述观察窗具有遮挡位置和打开位置，所述遮挡板在遮挡位置用于遮挡所述观察窗对所述壳体内的观察；所述遮挡板在打开位置移开对所述观察窗的遮挡，以便于通过观察窗对所述壳体内进行观察。

可选地，所述遮挡板相对于所述观察窗的透明片为倾斜设置。

可选地，所述壳体内设置有：滑轨，所述滑轨设置在所述壳体内表面，所述遮挡板设置于所述滑轨上，且所述滑轨的路径至少覆盖对应所述观察窗的前方。

驱动装置，固定设置在所述壳体的内表面上，所述驱动装置的驱动端与所述遮挡板固定连接，所述遮挡板通过所述驱动装置的驱动在所述遮挡位置和所述打开位置之间移动。

可选地，还包括：清洁器，相对于所述观察窗固定设置在所述壳体内，所述清洁器具有中空结构的管道以及位于所述管道终端的清洁部，用于对所述观察窗的表面进行吹扫。

可选地，所述清洁部朝向所述观察窗，并通过所述管道与位于所述壳体外部的吹扫气体连通。可选地，所述清洁部上具有至少一个朝向所述观察窗的出气孔，所述出气孔的内径沿朝向所述观察窗的方向为逐渐变小。

可选地，所述管道的位于所述壳体外的部分设置有阀门，所述阀门用于控制通过所述管道进入所述壳体内的吹扫气体的通断。

可选地，所述阀门为电磁阀，所述电磁阀通过电信号与控制器连接，所述电磁阀用于控制通过所述管道进入所述壳体内的吹扫气体的通断。

可选地，所述观察窗上的透明片相对于所述壳体的外表面为倾斜设置或平行设置。