[实用新型]一种暂存装置及镀膜设备

说明书

本实用新型公开了一种暂存装置及镀膜设备，其中，暂存装置设置在传输线的两工序装置之间，包括：暂存机构和驱动机构。暂存机构包括至少两个暂存台，暂存台的承载面与传输线的传输方向平行设置，所述暂存台的承载面的承载量至少大于两工序装置中任一个的单次工艺加工量；驱动机构包括至少一个对接驱动器，对接驱动器的驱动端与每个暂存台连接，对接驱动器驱动承载面与传输线上相邻的装置连接。通过暂存台的缓存，实现慢速工艺与快速工艺的相互适配，减少了慢速工艺等待待加工件供应的问题，有效缩短整机设备的生产节拍，从而解决了相邻工序装置之间衔接问题，保证整机设备的生产节拍顺畅性。

技术领域

本实用新型涉及传输技术领域，具体涉及一种暂存装置及镀膜设备。

背景技术

当今，磁控溅射已成为镀膜主流技术之一。溅射镀膜技术是用离子轰击靶材表面，靶材的原子被击出的现象称为溅射。溅射产生的原子沉积在基体表面成膜称为溅射镀膜。该技术通常是利用气体放电产生气体电离，其正离子在电场作用下高速轰击阴极靶体，击出阴极靶体原子或分子，飞向被镀基体表面沉积成薄膜。

在PVD(Physical Vapor Deposition，物理气相沉积)溅射镀膜设备中，通常包括多个工序装置，在不同的工序装置内进行不同的工艺步骤，用以对待镀膜工件根据设计镀不同的膜。但是，现有的镀膜设备中，由于在前工序装置和在后工序装置的镀膜速度和所需要的工艺时间不同，导致存在部分腔室需要等待其他腔室工艺完成才可以进行本腔室相应工艺步骤的情况，考虑生产的正常进行，不得不设置等待时间，导致出现影响整机设备的生产节拍的问题。尤其是，在前工序装置的工艺时间比在后工序装置的工艺时间短时，会严重降低生产效率。

人们一直致力于提高磁控溅射技术的效率，开拓它的应用范围，生产节拍的紧凑衔接是目前亟待解决的一个技术问题。

实用新型内容

因此，本实用新型所要解决的技术问题是针对现有技术中的由于镀膜设备中，由于在前工序装置和在后工序装置的镀膜速度和所需要的工艺时间不同，导致存在部分腔室需要等待其他腔室工艺完成才可以进行本腔室相应工艺步骤的情况，提供一种暂存装置及相应的镀膜设备，解决相邻工序装置之间衔接问题，避免出现影响整机设备的生产节拍的情况。

本实用新型提供一种暂存装置，设置在传输线的两工序装置之间，包括：

暂存机构，包括至少两个暂存台，所述暂存台的承载面与所述传输线的传输方向平行设置，所述暂存台的承载面的承载量至少大于两工序装置中任一个的单次工艺加工量；

至少一组驱动机构，所述驱动机构包括至少一个对接驱动器，所述对接驱动器的驱动端与每个所述暂存台连接，所述对接驱动器驱动所述承载面与所述传输线上相邻的装置连接。

可选地，上述的暂存装置，所述对接驱动器的驱动方向相对于所述传输方向呈夹角设置。

可选地，上述的暂存装置，所述驱动方向相对于所述传输方向呈垂直设置。

可选地，上述的暂存装置，包括至少两组驱动机构，所述驱动机构呈对称地与所述暂存台的两侧。

可选地，上述的暂存装置，还包括到位检测结构，所述到位检测结构安装在所述承载面上，用以检测所述承载面上的待加工件的到位。

可选地，上述的暂存装置，还包括压力检测结构，所述压力检测结构安装在所述驱动端上，用以检测所述驱动端的压力。

一种镀膜设备，包括：上述的暂存装置，所述暂存装置设置于相邻的工序装置之间；

传输机构，用以带动所述承载面上的待加工件沿传输方向传输。

可选地，上述的镀膜设备，所述传输机构包括：

传输滚轮，设置在所述暂存台上；