[实用新型]一种全无机晶体管型X射线探测器有效

专利信息
申请号: 202022698284.X 申请日: 2020-11-20
公开(公告)号: CN214012954U 公开(公告)日: 2021-08-20
发明(设计)人: 李佳;曹勇 申请(专利权)人: 深圳先进技术研究院
主分类号: H01L31/119 分类号: H01L31/119;H01L31/20
代理公司: 北京市诚辉律师事务所 11430 代理人: 耿慧敏
地址: 518055 广东省深圳*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 无机 晶体管 射线 探测器
【权利要求书】:

1.一种全无机晶体管型X射线探测器,包括衬底、栅电极、栅绝缘层、沟道半导体层、源电极和漏电极、X射线吸收层和保护层,其特征在于,在所述X射线吸收层和所述沟道半导体层建立异质结,在X射线照射下,该异质结使所产生的电子-空穴对分离,并使所述X射线吸收层产生的载流子注入到所述沟道半导体层。

2.根据权利要求1所述的全无机晶体管型X射线探测器,其特征在于,所述栅电极形成在所述衬底上;所述栅绝缘层形成在所述栅电极上;所述源电极和所述漏电极分别形成在所述栅绝缘层上;所述沟道半导体层形成在所述栅绝缘层、所述漏电极和所述源电极上;所述X射线吸收层形成并覆盖在所述沟道半导体层上。

3.根据权利要求2所述的全无机晶体管型X射线探测器,其特征在于,所述栅电极的下表面与所述衬底相连;所述栅电极的上表面与所述栅绝缘层的下表面相连;所述栅绝缘层的上表面与所述沟道半导体层的下表面相连;所述源电极下表面、所述漏电极下表面与所述沟道半导体层的上表面相连;所述源电极上表面、所述漏电极上表面分别与所述X射线吸收层下表面相连;所述X射线吸收层的上表面与所述保护层相连。

4.根据权利要求1所述的全无机晶体管型X射线探测器,其特征在于,还包括电荷传输层,其中,所述栅电极形成在所述衬底上;所述栅绝缘层形成在所述栅电极上;所述源电极和所述漏电极分别形成在所述栅绝缘层上;所述沟道半导体层形成在所述栅绝缘层、所述漏电极和所述源电极上;所述电荷传输层形成并覆盖在所述沟道半导体层上;所述X射线吸收层形成并覆盖在所述电荷传输层上。

5.根据权利要求4所述的全无机晶体管型X射线探测器,其特征在于,所述栅电极的下表面与所述衬底相连,所述栅电极上表面与所述栅绝缘层的下表面相连;所述源电极下表面、所述漏电极下表面与所述栅绝缘层接触,所述沟道半导体层覆盖在所述漏电极、所述源电极和所述栅绝缘层之上;所述沟道半导体层与所述X射线吸收层下表面相连;所述X射线吸收层的上表面与所述保护层相连。

6.根据权利要求1所述的全无机晶体管型X射线探测器,其特征在于,所述X射线吸收层形成在所述衬底上;所述源电极和所述漏电极分别形成在所述X射线吸收层上;所述沟道半导体层形成并覆盖在所述X射线吸收层、所述漏电极和所述源电极上;所述栅绝缘层形成在所述沟道半导体上;所述栅电极形成在所述栅绝缘层上;所述保护层形成在所述栅电极上。

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