[实用新型]一种全无机晶体管型X射线探测器有效

专利信息
申请号: 202022698284.X 申请日: 2020-11-20
公开(公告)号: CN214012954U 公开(公告)日: 2021-08-20
发明(设计)人: 李佳;曹勇 申请(专利权)人: 深圳先进技术研究院
主分类号: H01L31/119 分类号: H01L31/119;H01L31/20
代理公司: 北京市诚辉律师事务所 11430 代理人: 耿慧敏
地址: 518055 广东省深圳*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 无机 晶体管 射线 探测器
【说明书】:

本实用新型提供一种全无机晶体管型X射线探测器。该探测器包括衬底、栅电极、栅绝缘层、沟道半导体层、源电极和漏电极、X射线吸收层和保护层,其中,在所述X射线吸收层和所述沟道半导体层建立异质结,在X射线照射下,该异质结使所产生的电子‑空穴对分离,并使所述X射线吸收层产生的载流子注入到所述沟道半导体层。本实用新型无需设置顶电极,通过异质结界面将吸收层的非平衡载流子转移到沟道层中,可在低电压条件下工作,并且器件结构简单,易于制造。

技术领域

本实用新型涉及X射线探测器技术领域,尤其涉及一种全无机晶体管型X射线探测器。

背景技术

目前商用直接探测X射线平板探测器通常是基于非晶硒(a-Se)的平板探测器,非晶硒X射线平板探测器具有较宽的动态范围,能够满足低能X射线成像,如乳房X线照相术的要求(~20keV)。然而非晶硒平板X射线探测器为两端结构,不具有电荷增益功能,因而不具有信号放大功能,导致信噪比低。为了增强电荷信号,通常会将X射线直接探测器与场效应管集成使用,利用晶体管放大电信号。并且为了提高信号响应,通常需要在X射线吸收层上形成一层顶部电极,在顶部电极上施加偏压,使得X光照射产生的电子空穴分离,并将载流子注入到导电沟通中。

在现有技术中,如图1所示,典型的探测器结构均需设置顶电极,例如专利申请CN201811094472.2、CN201810563401.6CN201710977868.0等。由于这类探测器结构需要额外电极,不利于简化制备工艺。

发明内容

本实用新型的目的在于克服上述现有技术的缺陷,提供一种全无机晶体管型X射线探测器,通过采用恰当的异质结结构,促进光生载流子分离,可在低电压条件下工作。

本实用新型提供一种全无机晶体管型X射线探测器。该探测器包括衬底、栅电极、栅绝缘层、沟道半导体层、源电极和漏电极、X射线吸收层和保护层,其中,在所述X射线吸收层和所述沟道半导体层建立异质结,在X射线照射下,该异质结使所产生的电子-空穴对分离,并使所述X射线吸收层产生的载流子注入到所述沟道半导体层。

在一个实施例中,所述栅电极形成在所述衬底上;所述栅绝缘层形成在所述栅电极上;所述源电极和所述漏电极分别形成在所述栅绝缘层上;所述沟道半导体层形成在所述栅绝缘层、所述漏电极和所述源电极上;所述X射线吸收层形成并覆盖在所述沟道半导体层上。

在一个实施例中,所述栅电极的下表面与所述衬底相连;所述栅电极的上表面与所述栅绝缘层的下表面相连;所述栅绝缘层的上表面与所述沟道半导体层的下表面相连;所述源电极下表面、所述漏电极下表面与所述沟道半导体层的上表面相连;所述源电极上表面、所述漏电极上表面分别与所述X射线吸收层下表面相连;所述X射线吸收层的上表面与所述保护层相连。

在一个实施例中,本实用新型提供的探测器还包括电荷传输层,其中,所述栅电极形成在所述衬底上;所述栅绝缘层形成在所述栅电极上;所述源电极和所述漏电极分别形成在所述栅绝缘层上;所述沟道半导体层形成在所述栅绝缘层、所述漏电极和所述源电极上;所述电荷传输层形成并覆盖在所述沟道半导体层上;所述X射线吸收层形成并覆盖在所述电荷传输层上。

在一个实施例中,所述栅电极的下表面与所述衬底相连,所述栅电极上表面与所述栅绝缘层的下表面相连;所述源电极下表面、所述漏电极下表面与所述栅绝缘层接触,所述沟道半导体层覆盖在所述漏电极、所述源电极和所述栅绝缘层之上;所述沟道半导体层与所述X射线吸收层下表面相连;所述X射线吸收层的上表面与所述保护层相连。

在一个实施例中,所述X射线吸收层形成在所述衬底上;所述源电极和所述漏电极分别形成在所述X射线吸收层上;所述沟道半导体层形成并覆盖在所述X射线吸收层、所述漏电极和所述源电极上;所述栅绝缘层形成在所述沟道半导体上;所述栅电极形成在所述栅绝缘层上;所述保护层形成在所述栅电极上。

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