[实用新型]掩模装置及蒸镀系统有效
申请号: | 202022719182.1 | 申请日: | 2020-11-20 |
公开(公告)号: | CN213142164U | 公开(公告)日: | 2021-05-07 |
发明(设计)人: | 李基满;彭振威 | 申请(专利权)人: | 乐金显示光电科技(中国)有限公司 |
主分类号: | C23C14/04 | 分类号: | C23C14/04;C23C14/24;H01L51/56 |
代理公司: | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人: | 胡彬 |
地址: | 510530 广东省广州市广*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 装置 系统 | ||
1.一种掩模装置,其特征在于,包括掩模框架,所述掩模框架上固定设置有一层掩模架,所述掩模架包括多个固定连接的掩模条,每个所述掩模条上背离所述掩模框架的一侧设置有至少一个第一支撑片,所述第一支撑片包括固定连接的第一支撑基座和第一支撑端,所述第一支撑基座与所述掩模条固定连接,所述第一支撑端的宽度小于所述掩模条的宽度,所述第一支撑端能够抵接玻璃的表面。
2.根据权利要求1所述的掩模装置,其特征在于,还包括第二支撑片,所述第二支撑片包括相互固定连接的第二支撑基座和第二支撑端,所述第二支撑基座与所述第一支撑端可拆卸连接,所述第二支撑端能够抵接所述玻璃的表面。
3.根据权利要求2所述的掩模装置,其特征在于,所述第二支撑基座的宽度小于或等于所述第一支撑端的宽度。
4.根据权利要求2所述的掩模装置,其特征在于,所述第一支撑端的端面和/或所述第二支撑端的端面为环形。
5.根据权利要求2所述的掩模装置,其特征在于,所述第一支撑端的端面和/或所述第二支撑端的端面设置有缓冲层。
6.根据权利要求2所述的掩模装置,其特征在于,所述第一支撑端和所述第二支撑基座之间,或,所述第一支撑基座与所述掩模条之间,或,所述掩模条与所述掩模框架之间设置有熔接层。
7.根据权利要求2所述的掩模装置,其特征在于,所述第一支撑片和所述第二支撑片由金属制成。
8.根据权利要求1所述的掩模装置,其特征在于,两个所述掩模条交叉重叠设置,以形成一层所述掩模架。
9.根据权利要求1所述的掩模装置,其特征在于,还包括设置在所述掩模框架上靠近所述玻璃一侧的吸附结构,所述吸附结构能够固定所述玻璃。
10.一种蒸镀系统,其特征在于,包括蒸镀机,及权利要求1至9任一项所述的掩模装置,所述掩模装置的第一支撑片能够抵接玻璃,所述蒸镀机朝向所述玻璃。
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