[实用新型]用于PECVD设备的承载支架及腔体

说明书

用于PECVD设备的承载支架及腔体属于半导体材料制造领域，具体涉及太阳能电池生产中等离子体增强化学气相沉积（PECVD）的真空镀膜系统、该真空镀膜系统中的传输机构和传输机构中的承载支架及与该承载支架配合的腔体。本实用新型提供一种使用方便，对光伏硅片无影响的承载支架及与该承载支架配合的腔体。本实用新型的承载支架，包括主体支架，主体支架下方设置有多个钩形抓手单元，所述钩形抓手单元包括与主体支架相连的连接杆，连接杆两侧均设置有钩手；主体支架两侧设置有导轮。

技术领域

本实用新型属于半导体材料制造领域，具体涉及太阳能电池生产中等离子体增强化学气相沉积（PECVD）的真空镀膜系统、该真空镀膜系统中的传输机构和传输机构中的承载支架及与该承载支架配合的腔体。

背景技术

在目前的真空镀膜系统中，硅基片的水平传输通常使用两种方案。一是通过载板承载着硅基片传输到工艺室后，在硅基片镀膜过程中，载板一直承载着基片留在工艺腔室，此方案通常被称为“载板方案”。另一种是通过夹具将基材传输到工艺腔后，将基片放置在固定于工艺腔的承载支架上，进行真空镀膜；镀膜之前夹具已经移出了工艺腔室。这种方案通常被称为“无载板方案”。

当考虑到硅基片需要在短时间内被加热到均匀的温度，无载板方案相比于载板方案，在加热时间上更短，更具优势。

另外，目前的无载板方案的传送方式主要使用皮带传送和带吸盘机械手传送，这两种方式在电池的生产过程中都会造成不良影响，其中皮带与硅片表面存在接触和摩擦，使硅片表面存在皮带印迹，降低电池良率及效率。而吸盘的方式，同样会存在吸盘印迹，降低电池良率及效率。

目前光伏硅片的尺寸各种各样，包括M2～M12各种尺寸，导致载板根据电池片产品的尺寸规格不同，需要更换相应的载板，增大了设备的成本。

发明内容

本实用新型就是针对上述问题，提供的一种使用方便，对光伏硅片无影响的承载支架及与该承载支架配合的腔体。

为实现本实用新型的上述目的，本实用新型采用如下技术方案，本实用新型的承载支架，包括主体支架，其特征在于：主体支架下方设置有多个钩形抓手单元，所述钩形抓手单元包括与主体支架相连的连接杆，连接杆两侧均设置有钩手；主体支架两侧设置有导轮。

作为本实用新型的一种优选方案，所述钩手上表面为倾斜面。

作为本实用新型的另一种优选方案，所述钩形抓手单元的四角处设置有限位卡点。

作为本实用新型的第三种优选方案，所述连接杆上设置有连接孔，连接杆通过连接孔和顶丝与承载支架相连。

作为本实用新型的第四种优选方案，所述主体支架四周设置有外框龙骨，所述导轮设置于外框龙骨的两侧；外框龙骨之间设置有中心龙骨，中心龙骨两侧设置有副龙骨。

进一步的，所述外框龙骨、中心龙骨和副龙骨均为镂空结构。

一种与上述承载支架配合的腔体，包括腔体内的衬底支架，衬底支架与相对的两钩手的间隙对应；所述腔体内设置有衬底支架和主体支架的相对竖直运动机构。

所述相对竖直运动机构包括设置于腔体内的顶升气缸，顶升气缸的伸缩杆与一顶升导轨相连，顶升导轨与主体支架两侧的导轮相配合。

本实用新型的有益效果：1、本实用新型使用时，硅片在整个PECVD设备中的运动过程中，从上料台到第一个工艺腔室，从第一个工艺腔室到第二个工艺腔室，从第二个工艺腔室到下料台，整个过程中，抓手不与硅片的表面接触，避免对硅片表面及所镀膜层的损伤。

2、承载支架由于不经过工艺反应，材质选择上受到较少限制，可以使用包括不锈钢、铝、金属合金、碳纤维等耐高温不易变形材料。