[实用新型]下电极底座装置及真空镀膜腔系统

权利要求书

1.下电极底座装置，包括的用于异质结PECVD设备的下电极底座装置，包括固定横梁（1），其特征在于：固定横梁（1）上通过支脚设置有固定的下电极载片板（2），下电极载片板（2）下方设置有下电极托盘组件（3），下电极托盘组件（3）下方设置有升降系统（4）。

2.根据权利要求1所述的下电极底座装置，其特征在于：所述下电极载片板（2）底部设置为楔形凸起（10），所述下电极托盘组件（3）的上表面设置有与楔形凸起（10）配合的楔形槽。

3.根据权利要求2所述的下电极底座装置，其特征在于：所述楔形槽的开口处设置有限位槽（6）。

4.根据权利要求1所述的下电极底座装置，其特征在于：所述升降系统（4）包括设置于下电极托盘组件（3）底部两角和与两角相对的横边中点的三个螺旋升降机（13），螺旋升降机（13）与马达（14）相连；螺旋升降机（13）和下电极托盘组件（3）之间还设置有导向座（12）。

5.一种真空镀膜腔系统，其使用如权利要求1～4任一项所述下电极底座装置，其特征在于：包括腔体（16），腔体（16）两侧设置有进出口（15），进出口（15）处设置有真空阀门（8）；腔体（16）内顶部设置有上电极（17）；腔体（16）内底部相对于上电极（17）设置有所述下电极底座装置。

6.根据权利要求5所述的真空镀膜腔系统，其特征在于：相对于进出口（15）设置有取片装置（9），取片装置（9）下端排布设置有钩手（5），所述下电极载片板（2）相应于钩手（5）之间的间隙设置。