[实用新型]半导体化学气相沉积装置喷头部件洗净喷砂防堵保护治具

说明书

本实用新型公开了半导体化学气相沉积装置喷头部件洗净喷砂防堵保护治具，包括下部进气保护治具、空气增压泵、气压调节阀、气体导流板、橡胶密封圈和上部保护治具，所述上部保护治具位于下部进气保护治具上，在下部进气保护治具上面设有一圈凸起，所述凸起外周设有橡胶密封圈，凸起内凹设有进气槽，在进气槽中固定有气体导流板，所述进气槽底部设有多个进气口，每个进气口分别与进气管路相连，所述进气管路均连接至主管路，在主管路上依次设有气压调节阀、空气增压泵。本申请治具可以避免喷砂造成的孔内砂材颗粒堵塞，而且能够消除使用胶带保护所引起的不良影响。

技术领域

本实用新型涉及一种洗净喷砂保护治具，具体涉及一种半导体CVD化学气相沉积装置喷头SHOWERHEAD部件洗净喷砂防堵保护治具。

背景技术

在半导体CVD化学气相沉积装置中，喷头SHOWERHEAD部件表面需要一定的粗糙度，可以吸附多余的物质，因此在对该喷头SHOWERHEAD部件进行洗净时，需要对其进行喷砂处理以达到表面的粗糙度要求，细小的砂氧化铝颗粒在压缩空气带动下，对部件表面进行冲击，但是因喷头SHOWERHEAD部件表面为多孔圆台形结构，因此细小的砂材颗粒极易堵塞在孔内，不易去除，影响孔的正常气体流量，进而导致部件使用效果欠佳。

现有技术通常采用胶带对非喷砂区域进行保护，但是该种保护方式的缺点为：保护区域边缘不齐整，且胶带无法重复利用，增加生产成本，胶带容易破损，造成不良。

实用新型内容

针对现有技术存在上述问题，本发明提供了半导体化学气相沉积装置喷头部件洗净喷砂防堵保护治具，可以避免喷砂造成的孔内砂材颗粒堵塞，而且能够消除使用胶带保护所引起的不良影响。

为实现上述目的，本申请的技术方案为：半导体化学气相沉积装置喷头部件洗净喷砂防堵保护治具，包括下部进气保护治具、空气增压泵、气压调节阀、气体导流板、橡胶密封圈和上部保护治具，所述上部保护治具位于下部进气保护治具上，在下部进气保护治具上面设有一圈凸起，所述凸起外周设有橡胶密封圈，凸起内凹设有进气槽，在进气槽中固定有气体导流板，所述进气槽底部设有多个进气口，每个进气口分别与进气管路相连，所述进气管路均连接至主管路，在主管路上依次设有气压调节阀、空气增压泵。

进一步的，所述上部保护治具包括固定环，所述固定环内连接有倾斜设置的遮挡板。

进一步的，待喷砂喷头部件通过橡胶密封圈压合在下部进气保护治具上，上部保护治具的遮挡板贴附在待喷砂喷头部件的非喷砂区域。

进一步的，所述进气槽底部开有安装孔，长杆螺栓穿过安装孔将气体导流板固定在进气槽内，所述进气槽与气体导流板之间形成气体均布腔。

进一步的，所述气体导流板上开有多圈出气孔。

更进一步的，在上部保护治具的固定环上开有多个固定孔，在下部进气保护治具的外周开有与固定孔对应的螺纹孔，禁锢螺丝穿过固定孔、螺纹孔将上部保护治具固定在下部进气保护治具上。

更进一步的，在下部进气保护治具底部四周设有支脚。

本实用新型由于采用以上技术方案，能够取得如下的技术效果：通过上部保护治具将喷头部件的非喷砂区域进行完全遮挡，其可以重复使用，节约成本；压缩空气通过气体导流板的出气孔吹向喷头部件，能够避免在喷砂过程中砂材颗粒堵塞在孔内，其操作简单、实用性强，极易推广。

附图说明

图1为本申请洗净喷砂防堵保护治具爆炸图；

图2为下部进气保护治具俯视图；

图3为下部进气保护治具仰视图；

图4为气体导流板俯视图；

图5为上部保护治具俯视图；