[实用新型]一种镀膜设备

权利要求书

1.一种镀膜设备，包括工艺腔室(1)以及配置在所述工艺腔室(1)内的工艺传输机构和旋转靶材(2)，所述工艺传输机构用于传输载板，所述旋转靶材(2)用于对所述载板上的工件进行镀膜，其特征在于，还包括：

设置于所述工艺腔室(1)前端的前缓冲腔室(10)，以及设置于所述工艺腔室(1)后端的后缓冲腔室(11)，所述工艺传输机构将所述载板从所述工艺腔室(1)的前端输送到所述工艺腔室(1)的后端；

回传输送机构，包括配置在所述工艺腔室(1)内且输送方向与所述工艺传输机构的输送方向相反的底层传送带(4)、配置在所述前缓冲腔室(10)内将所述底层传送带(4)输出的所述载板运送至所述工艺传输机构前端的前传送带(7)、以及配置在所述后缓冲腔室(11)内将所述工艺传输机构输出的所述载板运送至所述底层传送带(4)上的后传送带(5)。

2.根据权利要求1所述的镀膜设备，其特征在于，所述工艺传输机构为配置在所述工艺腔室(1)内的顶层传送带(3)，所述底层传送带(4)位于所述顶层传送带(3)的下方。

3.根据权利要求2所述的镀膜设备，其特征在于，还包括后驱动电机(6)和前驱动电机(8)，所述后驱动电机(6)用于驱动所述后传送带(5)升降，所述前驱动电机(8)用于驱动所述前传送带(7)升降；其中，

所述后传送带(5)在所述后驱动电机(6)的驱动下具有与所述顶层传送带(3)的输出端对接以便所述载板从所述顶层传送带(3)运送到所述后传送带(5)上的第一位置、以及与所述底层传送带(4)的输入端对接以便所述载板从所述后传送带(5)运送到所述底层传送带(4)的第二位置；

所述前传送带(7)在所述前驱动电机(8)的驱动下具有与所述底层传送带(4)的输出端对接以便所述载板从所述底层传送带(4)运送到所述前传送带(7)上的第三位置、以及与所述顶层传送带(3)的输入端对接以便所述载板从所述前传送带(7)运送到所述顶层传送带(3)的第四位置。

4.根据权利要求3所述的镀膜设备，其特征在于，还包括底层传送电机(15)，用于驱动所述底层传送带水平运动；

所述底层传送电机(15)、所述后驱动电机(6)和所述前驱动电机(8)均设置于所述工艺腔室(1)的外部，各传动轴通过密封件分别连接至对应的腔室。

5.根据权利要求3所述的镀膜设备，其特征在于，所述顶层传送带(3)和所述底层传送带(4)之间设有遮挡板(9)，所述遮挡板(9)的面积不小于所述旋转靶材(2)在所述工艺腔室(1)的镀膜范围。

6.根据权利要求3所述的镀膜设备，其特征在于，还包括第一位置传感器(12)和第二位置传感器(13)，其中：

所述第一位置传感器(12)，设置于所述后缓冲腔室(11)内，用于检测所述顶层传送带(3)上的所述载板的位置，以使得控制单元在其检测到所述载板运动到所述顶层传送带(3)的输出端时向所述后驱动电机(6)发送控制所述后传送带(5)上升到所述第一位置的控制信号；

所述第二位置传感器(13)，设置于所述前缓冲腔室(10)内，用于检测所述底层传送带(4)上的所述载板的位置，以使得控制单元在其检测到所述载板运动到所述底层传送带(4)的输出端时向所述前驱动电机(8)发送控制所述前传送带(7)下降到所述第三位置的控制信号。

7.根据权利要求6所述的镀膜设备，其特征在于，所述前缓冲腔室(10)内还设有用于检测所述前传送带(7)上是否放置有所述载板的探测传感器，和/或，所述后缓冲腔室(11)内还设有用于检测所述后传送带(5)上是否放置有所述载板的探测传感器。

8.根据权利要求2－7任一项所述的镀膜设备，其特征在于，所述顶层传送带(3)和所述底层传送带(4)的传输速度相同。

9.根据权利要求2－7任一项所述的镀膜设备，其特征在于，所述顶层传送带(3)由多个输送带模组依次拼接而成，和/或，所述底层传送带(4)由多个输送带模组依次拼接而成。

10.根据权利要求3－7任一项所述的镀膜设备，其特征在于，所述镀膜设备还包括能预先输入镀膜次数的工艺编辑器，所述工艺腔室(1)内设有用于对所述后传送带(5)的升降次数进行计数的计数器，当所述计数器的计数次数达到所述工艺编辑器预先输入的镀膜次数时，所述工艺编辑器控制所述后驱动电机(6)驱动所述后传送带(5)运动到与所述顶层传送带(3)对接的第一位置，所述顶层传送带(3)输出的载板通过所述后传送带(5)向外输出。