[实用新型]一种搪瓷底釉生产系统有效

专利信息
申请号: 202022826627.6 申请日: 2020-11-30
公开(公告)号: CN214612197U 公开(公告)日: 2021-11-05
发明(设计)人: 粟鑫;解付兵;欧阳书径;陈人可;刘守龙;刘宜德;翟海军;刘力玮;曹莹 申请(专利权)人: 湖南景翌湘台环保高新技术开发有限公司;深圳粤鹏环保技术股份有限公司
主分类号: C03C8/00 分类号: C03C8/00;C03C1/02
代理公司: 长沙德恒三权知识产权代理事务所(普通合伙) 43229 代理人: 葛艳
地址: 411100 湖*** 国省代码: 湖南;43
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摘要:
搜索关键词: 一种 搪瓷 生产 系统
【权利要求书】:

1.一种搪瓷底釉生产系统,其特征在于,包括预处理装置、储料装置,混料装置、焙烧装置、水淬装置以及烘干装置,所述预处理装置用于处理废稀土抛光粉,所述储料装置用于储藏除废稀土抛光粉外的原料,所述预处理装置和储料装置均与所述混料装置连接,所述焙烧装置包括熔炉组,每个熔炉组均包括两个依次连接的第一熔炉、第二熔炉和第三熔炉,其中第一熔炉的进料口与所述混料装置的出料口连接,第三熔炉的出料口与所述水淬装置连接,水淬装置与所述烘干装置连接。

2.根据权利要求1所述的搪瓷底釉生产系统,其特征在于,所述预处理装置包括依次连接的研磨装置和筛分装置,所述筛分装置通过输料管与所述混料装置连接,输料管上设置有阀门。

3.根据权利要求1所述的搪瓷底釉生产系统,其特征在于,所述混料装置包括基座以及设置于基座上的搅拌桶,搅拌桶设置有搅拌叶,搅拌叶顶部连接升降臂,所述升降臂底部固定于基座上。

4.根据权利要求3所述的搪瓷底釉生产系统,其特征在于,所述基座底部设置有重量传感器。

5.根据权利要求1所述的搪瓷底釉生产系统,其特征在于,所述熔炉组的数量为多个,每个熔炉组中的第一熔炉的进料口均通过进料管与所述混料装置的出料口连接,所述进料管上同样设置有阀门。

6.根据权利要求5所述的搪瓷底釉生产系统,其特征在于,所述第一熔炉、第二熔炉和第三熔炉间的输料管上设置有保温层。

7.根据权利要求6所述的搪瓷底釉生产系统,其特征在于,所述水淬装置为长条槽形结构,多个所述第三熔炉对应于同一个所述水淬装置,所述水淬装置上设置有与第三熔炉个数对应的检测装置,检测装置用于检测第三熔炉中得到的熔融体是否合格。

8.根据权利要求7所述的搪瓷底釉生产系统,其特征在于,所述检测装置与所述烘干装置通过输送带连接。

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