[实用新型]一种搪瓷底釉生产系统

说明书

一种搪瓷底釉生产系统，包括预处理装置、储料装置，混料装置、焙烧装置、水淬装置以及烘干装置，所述预处理装置用于处理废稀土抛光粉，所述储料装置用于储藏除废稀土抛光粉外的原料，所述预处理装置和储料装置均与所述混料装置连接，所述焙烧装置包括熔炉组，每个熔炉组均包括两个依次连接的第一熔炉、第二熔炉和第三熔炉，其中第一熔炉的进料口与所述混料装置的出料口连接，第三熔炉的出料口与所述水淬装置连接，水淬装置与所述烘干装置连接。本实用新型所述的搪瓷底釉生产系统，其能将非稀土抛光粉应用于制备搪瓷底釉，设备利用率高，焙烧温度控制精准，制备得到的搪瓷底釉针眼和气泡的发生率显著降低。

技术领域

本实用新型涉及搪瓷底釉生产技术领域，具体为一种搪瓷底釉生产系统。

背景技术

近年来，随着手机的快速普及、更新换代和平板显示屏以及汽车中控屏的广泛使用，每年产生的废稀土抛光粉固体废料超过10万吨，并逐年增多，其中对稀土含量高的废抛光粉，本公司已申请专利(申请号为201811404138.2，一种从废稀土抛光粉中提取铝、氧化硅和稀土的方法)，该方法主要将高含量的废稀土抛光粉中的稀土充分回收从而产生价值。但在生产实践中，有一部分低含量的废稀土抛光粉，这部分低含量废抛光粉对应的氧化硅含量50～ 70％，氧化铝含量15～20％，稀土氧化物5～15％，这类废稀土抛光粉若清洗干净后售卖每吨盈利在300～500元，价格低廉，处理成本高，然而这种粒度细杂质少，硅含量高而稀土含量低的废稀土抛光粉，若继续做成申请号 201811404138.2中的氧化硅研磨粉，则面临产品销路和生产成本偏高的问题，而这部分抛光粉通过公司的技术加工可处理成氧化硅含量85～92％、氧化铝含量0.5～1％、二氧化铈和氟化镧合计占比为5～10％的产品，而这些产品如何进一步应用并提高其经济价值是个难题。

因此，一方面搪瓷底釉市场需求空间大而质量有待提高，另一方面废稀土抛光粉回收难，而现有技术中未有将废稀土抛光粉应用于搪瓷底釉制备的报道，究其原因在于，废稀土抛光粉成分复杂，应用于搪瓷底釉加工后其密着性问题、针眼问题等更加难以解决，因此，本实用新型旨在开发一种全新的、利用废稀土抛光粉制备搪瓷底釉的生产系统，以解决废稀土抛光粉回收难问题的同时解决搪瓷底釉针眼和气泡发生率高的难题，进一步实现规模化生产和推广。

实用新型内容

本实用新型所解决的技术问题在于提供一种搪瓷底釉生产系统，以解决上述背景技术中的缺点。

本实用新型所解决的技术问题采用以下技术方案来实现：

一种搪瓷底釉生产系统，包括预处理装置、储料装置，混料装置、焙烧装置、水淬装置以及烘干装置，所述预处理装置用于处理废稀土抛光粉，所述储料装置用于储藏除废稀土抛光粉外的原料，所述预处理装置和储料装置均与所述混料装置连接，所述焙烧装置包括熔炉组，每个熔炉组均包括两个依次连接的第一熔炉、第二熔炉和第三熔炉，其中第一熔炉的进料口与所述混料装置的出料口连接，第三熔炉的出料口与所述水淬装置连接，水淬装置与所述烘干装置连接。

进一步地，所述预处理装置包括依次连接的研磨装置和筛分装置，所述筛分装置通过输料管与所述混料装置连接，输料管上设置有阀门。

进一步地，所述混料装置包括基座以及设置于基座上的搅拌桶，搅拌桶设置有搅拌叶，搅拌叶顶部连接升降臂，所述升降臂底部固定于基座上。

进一步地，所述基座底部设置有重量传感器。

进一步地，所述熔炉组的数量为多个，每个熔炉组中的第一熔炉的进料口均通过进料管与所述混料装置的出料口连接，所述进料管上同样设置有阀门。

进一步地，所述第一熔炉、第二熔炉和第三熔炉间的输料管上设置有保温层。

进一步地，所述水淬装置为长条槽形结构，多个所述第三熔炉对应于同一个所述水淬装置，所述水淬装置上设置有与第三熔炉个数对应的检测装置，检测装置用于检测第三熔炉中得到的熔融体是否合格。