[实用新型]一种浸泡蚀刻设定架算盘珠

说明书

本实用新型公开了一种浸泡蚀刻设定架算盘珠，具有：珠体，其横截面的两侧为平面；承载部，设置在珠体的前端上，承载部的两侧与珠体的两侧平齐，承载部的前端为弧形；珠体的后端为平面，降低基板的制损，减小基板板厚差，提高HF的使用效率，降低生产成本。

技术领域

本实用新型属于液晶显示屏技术领域，尤其涉及一种浸泡蚀刻设定架算盘珠。

背景技术

近年来随着显示屏行业的高速发展，对现实生活中各类液晶显示屏要求越来越高，液晶显示屏逐渐趋向尺寸愈大、板厚愈薄的方向发展。目前减薄行业的减薄方式主要是物理研磨和化学蚀刻，其中化学蚀刻是最主要、最重要的减薄方式。

在实现本实用新型的过程中，发明人发现现有技术至少存在以下问题：

化学蚀刻方式主要分为喷淋蚀刻和浸泡蚀刻，现有的G5及以上尺寸液晶面板1.0mm薄化至0.3mm的加工工艺难度较高。喷淋蚀刻受流量影响较大，局部易出现较大板厚差的问题；现有浸泡蚀刻所用的治具之一是算盘珠，其作用是对一定数量的基板进行限位，避免基板在酸液槽内出现大幅摆动和叠片等引起的制损。

现有的算盘珠存在一定的缺陷，基板在蚀刻过程中易出现由算盘珠引起的卡空卡裂制损、基板厚度相差较大的问题。

缺点1：小/中型号算盘珠的最大限位长度分别为6mm/11.5mm，对G5及以上尺寸基板限位效果差，易造成基板齿位位置出现卡空卡裂制损(制损率＞13％)；

缺点2：大型号算盘珠最大限位长度为14mm，G5尺寸基板蚀刻后，齿位位置的板厚差非常大(100um以上/片)，经常导致基板板厚超内控范围，无法满足量产要求；

缺点3：各型号算盘珠与基板的可接触面积较大，对HF溶液的使用废液面积要求较高，增加了生产成本；而且易造成基板齿位位置出现较大板厚差和蚀刻不均，影响基板表观良率；

实用新型内容

本实用新型所要解决的技术问题是提供一种降低基板制损，减小基板板厚差的浸泡蚀刻设定架算盘珠。

为了解决上述技术问题，本实用新型所采用的技术方案是：一种浸泡蚀刻设定架算盘珠，具有：

珠体，其横截面的两侧为平面；

承载部，设置在所述珠体的前端上，所述承载部的两侧与珠体的两侧平齐，所述承载部的前端为弧形；所述珠体的后端为平面。

所述珠体和承载部为一体式结构。

算盘珠包括一系列的珠体，一系列的珠体中心相互连接成一个杆体。

上述技术方案中的一个技术方案具有如下优点或有益效果，降低基板的制损，减小基板板厚差，提高HF的使用效率，降低生产成本，同时实现浸泡蚀刻G5及以上尺寸液晶面板1.0mm薄化至0.3mm量产的目标。

附图说明

图1为现有技术算盘珠的结构示意图；

图2为现有技术算盘珠承载原理图；

图3为现有技术算盘珠计算原理图；

图4为本实用新型实施例中提供的浸泡蚀刻设定架算盘珠的结构示意图；

图5为图4的浸泡蚀刻设定架算盘珠的承载原理图；

图6为图4的浸泡蚀刻设定架算盘珠的计算原理图；

上述图中的标记均为：1、珠体，2、承载部。

具体实施方式

为使本实用新型的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本实用新型实施方式作进一步地详细描述。