[实用新型]一种用于真空镀膜样品的取样装置有效

专利信息
申请号: 202022833117.1 申请日: 2020-11-30
公开(公告)号: CN214010781U 公开(公告)日: 2021-08-20
发明(设计)人: 闫超;吕绪明;罗立平 申请(专利权)人: 核工业理化工程研究院
主分类号: G01N1/04 分类号: G01N1/04;C23C14/30
代理公司: 天津创智睿诚知识产权代理有限公司 12251 代理人: 李薇;田阳
地址: 300000 *** 国省代码: 天津;12
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摘要:
搜索关键词: 一种 用于 真空镀膜 样品 取样 装置
【权利要求书】:

1.一种用于真空镀膜样品的取样装置,其特征在于,包括取样装置底座和取样装置盖板,所述取样装置底座设有一个或多个取样片安装槽,所述取样片安装槽为上下开放的槽,所述取样片安装槽内设有凸台以承接样片,所述取样装置盖板可拆卸的装配于所述取样装置底座上以覆盖所有取样片安装槽。

2.如权利要求1所述的一种用于真空镀膜样品的取样装置,其特征在于,所述取样片安装槽设有多个,且呈矩阵均匀分布于所述取样装置底座上。

3.如权利要求1所述的一种用于真空镀膜样品的取样装置,其特征在于,所述取样装置底座由下底座板和上底座板固定连接而成,所述下底座板上设有一个多个下通孔,所述上底座板上设有一个或多个上通孔,所述下通孔和所述上通孔一一上下对应设置,所述下通孔的尺寸小于所述上通孔的尺寸,每一对应设置的上通孔和下通孔对应形成一个所述取样片安装槽。

4.如权利要求3所述的一种用于真空镀膜样品的取样装置,其特征在于,所述下底座板包括上平面板和固定于所述上平面板边缘上的侧支撑板。

5.如权利要求3所述的一种用于真空镀膜样品的取样装置,其特征在于,所述上通孔的尺寸大于所述真空镀膜样片的尺寸,所述下通孔的尺寸小于所述真空镀膜样片的尺寸。

6.如权利要求3所述的一种用于真空镀膜样品的取样装置,其特征在于,所述取样装置底座上设有圆台形凸起以使得取样装置盖板装配于取样装置底座上时与其之间留有间隙。

7.如权利要求1所述的一种用于真空镀膜样品的取样装置,其特征在于,所述取样装置底座上设有螺纹孔,所述取样装置盖板上设有通孔,所述通孔和所述螺纹孔一一对应设置,螺钉紧固件穿过所述通孔和螺纹孔将所述取样装置盖板紧固于所述取样装置底座上。

8.如权利要求1所述的一种用于真空镀膜样品的取样装置,其特征在于,所述取样装置底座上设有两个对称设置豁口。

9.如权利要求1所述的一种用于真空镀膜样品的取样装置,其特征在于,所述取样片安装槽的一侧设有与其相连通的工具插槽。

10.如权利要求1所述的一种用于真空镀膜样品的取样装置,其特征在于,所述取样装置底座、取样装置盖板的材质为金属钽。

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