[实用新型]一种提供受热均匀性的单晶体生产烧结炉有效
申请号: | 202022846964.1 | 申请日: | 2020-12-01 |
公开(公告)号: | CN214244675U | 公开(公告)日: | 2021-09-21 |
发明(设计)人: | 胡山 | 申请(专利权)人: | 四川恩科光电技术有限公司 |
主分类号: | C30B35/00 | 分类号: | C30B35/00;F26B11/04;F26B23/00;F26B25/16 |
代理公司: | 成都明涛智创专利代理有限公司 51289 | 代理人: | 毕雅凤 |
地址: | 620300 四川*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 提供 受热 均匀 单晶体 生产 烧结炉 | ||
1.一种提供受热均匀性的单晶体生产烧结炉,包括配重底板(1)、对称设置在配重底板(1)上端面两侧的两组承载板(3)以及设置在配重底板(1)上方的烧结炉主体(5),其特征在于:所述烧结炉主体(5)内开设有烘干仓(501),所述烘干仓(501)内延烧结炉主体(5)的轴心方向活动设置有一组调节轴(9),所述调节轴(9)的外缘面上对称构造有四组调节板(901),且调节轴(9)的外缘面上设置有一组存放装置(8);
所述存放装置(8)包括呈圆柱状的存放箱(12),所述存放箱(12)内开设有存放仓,且存放箱(12)的两侧均开设有连通至存放仓内的圆槽,圆槽的槽壁上对称构造有四组抵接板(13),四组所述抵接板(13)朝向存放箱(12)轴心方向的一端居中开设有滑动配合调节板(901)安装的配合槽(1301)。
2.根据权利要求1所述的一种提供受热均匀性的单晶体生产烧结炉,其特征在于:两组所述承载板(3)的上端面开均设有呈弧形的凹槽,且两组承载板(3)的两侧下方均构造有延伸板(301),凹槽的内缘面上固定安装有一组固定环(302),所述烧结炉主体(5)的外缘面与固定环(302)的内缘面固定抵接,所述延伸板(301)的上端面开设有供定位螺栓(4)安装的螺纹孔。
3.根据权利要求1所述的一种提供受热均匀性的单晶体生产烧结炉,其特征在于:所述调节轴(9)的一端延伸出烘干仓(501)且外缘面上固定安装有一组第一转轮(902),所述烧结炉主体(5)的一侧通过合叶活动安装有炉门(6),且调节轴(9)远离炉门(6)的一端通过滚子轴承活动安装有圆轴(1101),所述配重底板(1)的上端面一侧固定安装有一组放置板(10)。
4.根据权利要求3所述的一种提供受热均匀性的单晶体生产烧结炉,其特征在于:所述放置板(10)的上端面设置有电机(11),所述电机(11)通过电机轴与圆轴(1101)固定连接,所述圆轴(1101)的外缘面上固定安装有一组第二转轮(1102),所述第二转轮(1102)和第一转轮(902)的外缘面之间活动安装有一组皮带(14)。
5.根据权利要求3所述的一种提供受热均匀性的单晶体生产烧结炉,其特征在于:所述调节轴(9)朝向炉门(6)的一端开设有呈环形的密封槽,所述炉门(6)的一侧构造有配合密封槽安装的密封环(603),且炉门(6)内安装有把手(602),所述炉门(6)远离烧结炉主体(5)的一侧构造有把手(602),所述配重底板(1)的下端面四角均焊接连接有支撑腿(2),所述支撑腿(2)远离配重底板(1)的一端固定连接有抵接盘(201),所述烧结炉主体(5)的外缘面上固定安装有进气斗(7)。
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