[实用新型]一种提供受热均匀性的单晶体生产烧结炉有效
申请号: | 202022846964.1 | 申请日: | 2020-12-01 |
公开(公告)号: | CN214244675U | 公开(公告)日: | 2021-09-21 |
发明(设计)人: | 胡山 | 申请(专利权)人: | 四川恩科光电技术有限公司 |
主分类号: | C30B35/00 | 分类号: | C30B35/00;F26B11/04;F26B23/00;F26B25/16 |
代理公司: | 成都明涛智创专利代理有限公司 51289 | 代理人: | 毕雅凤 |
地址: | 620300 四川*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 提供 受热 均匀 单晶体 生产 烧结炉 | ||
本实用新型公开了一种提供受热均匀性的单晶体生产烧结炉,包括配重底板、对称设置在配重底板上端面两侧的两组承载板以及设置在配重底板上方的烧结炉主体,所述烧结炉主体内开设有烘干仓,所述烘干仓内延烧结炉主体的轴心方向活动设置有一组调节轴,所述调节轴的外缘面上对称构造有四组调节板,且调节轴的外缘面上设置有一组存放装置,所述存放装置包括呈圆柱状的存放箱,所述存放箱内开设有存放仓,且存放箱的两侧均开设有连通至存放仓内的圆槽,圆槽的槽壁上对称构造有四组抵接板,该提供受热均匀性的单晶体生产烧结炉,结构合理,便于使得单晶体进行均匀的受热烘干,且便于将装载单晶体的存放装置进行快速的安装,实用性强。
技术领域
本实用新型属于单晶体生产技术领域,具体涉及一种提供受热均匀性的单晶体生产烧结炉。
背景技术
单晶体是指样品中所含分子在三维空间中呈规则、周期排列的一种固体状态。化学药物中的原料药在合适的溶剂系统中经重结晶可得到适合X射线衍射使用的单晶样品,其大小约为0.5mm左右。例如:雪花、食盐小颗粒等。单晶体是半导体科学技术上的重要材料。
单晶体在生产的过程中需要经历在烧结炉中烘干,现有的单晶体多堆积在烧结炉内进行烘干,可由于靠近烧结炉内壁上的温度高烘干块,导致单晶体的烘干效率较低,且不便将装载单晶体的存放装置快速的安装在烧结炉内,影响单晶体的生产效率。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种提供受热均匀性的单晶体生产烧结炉,以解决上述背景技术中提出的问题。
为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:一种提供受热均匀性的单晶体生产烧结炉,包括配重底板、对称设置在配重底板上端面两侧的两组承载板以及设置在配重底板上方的烧结炉主体,所述烧结炉主体内开设有烘干仓,所述烘干仓内延烧结炉主体的轴心方向活动设置有一组调节轴,所述调节轴的外缘面上对称构造有四组调节板,且调节轴的外缘面上设置有一组存放装置;
所述存放装置包括呈圆柱状的存放箱,所述存放箱内开设有存放仓,且存放箱的两侧均开设有连通至存放仓内的圆槽,圆槽的槽壁上对称构造有四组抵接板,四组所述抵接板朝向存放箱轴心方向的一端居中开设有滑动配合调节板安装的配合槽。
优选的,两组所述承载板的上端面开均设有呈弧形的凹槽,且两组承载板的两侧下方均构造有延伸板,凹槽的内缘面上固定安装有一组固定环,所述烧结炉主体的外缘面与固定环的内缘面固定抵接,所述延伸板的上端面开设有供定位螺栓安装的螺纹孔。
优选的,所述调节轴的一端延伸出烘干仓且外缘面上固定安装有一组第一转轮,所述烧结炉主体的一侧通过合叶活动安装有炉门,且调节轴远离炉门的一端通过滚子轴承活动安装有圆轴,所述配重底板的上端面一侧固定安装有一组放置板。
优选的,所述放置板的上端面设置有电机,所述电机通过电机轴与圆轴固定连接,所述圆轴的外缘面上固定安装有一组第二转轮,所述第二转轮和第一转轮的外缘面之间活动安装有一组皮带。
优选的,所述调节轴朝向炉门的一端开设有呈环形的密封槽,所述炉门的一侧构造有配合密封槽安装的密封环,且炉门内安装有把手,所述炉门远离烧结炉主体的一侧构造有把手,所述配重底板的下端面四角均焊接连接有支撑腿,所述支撑腿远离配重底板的一端固定连接有抵接盘,所述烧结炉主体的外缘面上固定安装有进气斗。
本实用新型的技术效果和优点:该提供受热均匀性的单晶体生产烧结炉,得益于存放箱的设置,可启动电机,使得电机轴转动带动圆轴转动,从而使得第二转轮转动,通过皮带传动带动第一转轮和调节轴转动,从而实现了存放箱的转动,便于对放置在存放仓内的单晶体进行均匀的烘干;得益于配合槽和调节板的滑动配合安装,在对存放箱进行安装时可将调节板抵接在配合槽内,实现对存放箱的快速安装,提升单晶体的烘干效率。
附图说明
图1为本实用新型的结构示意图;
图2为本实用新型图1中A-A处的剖视图;
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