[实用新型]一种用于PVD离子源靶材的水冷结构有效
| 申请号： | 202022853773.8 | 申请日： | 2020-12-02 |
| 公开（公告）号： | CN214361646U | 公开（公告）日： | 2021-10-08 |
| 发明（设计）人： | 侯瑞;张鸿;周博文;张鹏蛟;李文亮;李俊周;孙安 | 申请（专利权）人： | 铍威镝新材料（南京）有限公司;江苏安德信超导加速器科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/32 | 分类号： | C23C14/32;C23C14/54 |
| 代理公司： | 常州佰业腾飞专利代理事务所(普通合伙) 32231 | 代理人： | 顾翰林 |
| 地址： | 210000 江苏省南*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 用于 pvd 离子源 水冷 结构 | ||
1.一种用于PVD离子源靶材的水冷结构，其特征在于：包括依次设置的铜靶座(1)、涡旋盘(2)、靶座绝缘垫(3)和里盖(4)，靶座绝缘垫(3)为环形，里盖(4)设有插孔(19)，一根通水管(8)的其中一端穿过里盖(4)的插孔(19)并与涡旋盘(2)固定连接，通水管(8)外套设有靶座绝缘套(12)；铜靶座(1)与涡旋盘(2)之间设有第一水流通道，第一水流通道由涡旋通道(17)和与涡旋通道(17)连通的反流通道(15)构成，涡旋盘(2)与里盖(4)之间设有第二水流通道(13)，通水管(8)内设进水孔(10)和出水孔(9)，进水孔(10)和出水孔(9)均沿通水管(8)纵向延伸，涡旋盘(2)设有第一连通孔(16)和第二连通孔(14)，进水孔(10)通过第一连通孔(16)与涡旋通道(17)连通，反流通道(15)通过第二连通孔(14)与第二水流通道(13)连通，通水管(8)设有连通第二水流通道(13)与出水孔(9)的第三连通孔(18)。
2.如权利要求1所述的一种用于PVD离子源靶材的水冷结构，其特征在于：反流通道(15)为设在涡旋通道(17)外围的弧形通道，反流通道(15)的进水端(21)位于涡旋通道(17)出水端(22)的径向外侧。
3.如权利要求1所述的一种用于PVD离子源靶材的水冷结构，其特征在于：涡旋通道(17)与反流通道(15)通过弧形的过渡通道(20)连通。
4.如权利要求1所述的一种用于PVD离子源靶材的水冷结构，其特征在于：靶座绝缘套(12)设有凸缘(5)，靶座绝缘套(12)一端插入里盖(4)的插孔(19)，凸缘(5)被卡挡在里盖(4)外侧。
5.如权利要求1所述的一种用于PVD离子源靶材的水冷结构，其特征在于：在通水管(8)外还套设有靶座压紧套(6)，靶座压紧套(6)设于靶座绝缘套(12)的纵向外侧，在通水管(8)外螺纹连接有外螺母(7)，外螺母(7)设于靶座压紧套(6)的纵向外侧。
6.如权利要求1所述的一种用于PVD离子源靶材的水冷结构，其特征在于：铜靶座(1)与涡旋盘(2)通过数个螺钉固定连接。
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