[实用新型]一种用于PVD离子源靶材的水冷结构

说明书

本实用新型公开了一种用于PVD离子源靶材的水冷结构，属于PVD技术领域，包括依次设置的铜靶座、涡旋盘、靶座绝缘垫和里盖，靶座绝缘垫为环形，里盖设有插孔，一根通水管的其中一端穿过里盖的插孔并与涡旋盘固定连接；铜靶座与涡旋盘之间设有第一水流通道，第一水流通道由涡旋通道和与涡旋通道连通的反流通道构成，涡旋盘与里盖之间设有第二水流通道，通水管内设进水孔和出水孔，涡旋盘设有第一连通孔和第二连通孔，进水孔通过第一连通孔与涡旋通道连通，反流通道通过第二连通孔与第二水流通道连通，通水管设有连通第二水流通道与出水孔的第三连通孔。本实用新型是一种冷却效果好、易加工、易安装且易拆卸的PVD离子源靶材的水冷结构。

技术领域

本实用新型属于PVD(物理气相沉积)技术领域，尤其涉及一种用于PVD离子源靶材的水冷结构。

背景技术

PVD是物理气相沉积的英文缩写，是指在真空条件下，采用低电压、大电流的电弧放电技术，利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质与气体发生电离，利用电场加速作用，使被蒸发物质及其反应产物沉积在工件上。对靶材未暴露面降温可延长靶材使用寿命，保护离子源其他零件正常运行，因此靶材部分的冷却水路尤为重要。

实用新型内容

本实用新型的目的是提供一种冷却效果好、易加工、易安装且易拆卸的PVD离子源靶材的水冷结构。

为实现上述目的，本实用新型采用如下技术方案：一种用于PVD离子源靶材的水冷结构，包括依次设置的铜靶座、涡旋盘、靶座绝缘垫和里盖，靶座绝缘垫为环形，里盖设有插孔，一根通水管的其中一端穿过里盖的插孔并与涡旋盘固定连接，在通水管外套设有靶座绝缘套；铜靶座与涡旋盘之间设有第一水流通道，第一水流通道由涡旋通道和与涡旋通道连通的反流通道构成，涡旋盘与里盖之间设有第二水流通道，通水管内设进水孔和出水孔，进水孔和出水孔均沿通水管纵向延伸，涡旋盘设有第一连通孔和第二连通孔，进水孔通过第一连通孔与涡旋通道连通，反流通道通过第二连通孔与第二水流通道连通，通水管设有连通第二水流通道与出水孔的第三连通孔。

反流通道为设在涡旋通道外围的弧形通道，反流通道的进水端位于涡旋通道出水端的径向外侧。

涡旋通道与反流通道通过弧形的过渡通道连通。

靶座绝缘套设有凸缘，靶座绝缘套一端插入里盖的插孔，凸缘被卡挡在里盖外侧。

在通水管外还套设有靶座压紧套，靶座压紧套设于靶座绝缘套的纵向外侧，在通水管外螺纹连接有外螺母，外螺母设于靶座压紧套的纵向外侧。

铜靶座与涡旋盘通过数个螺钉固定连接。

本实用新型所述的一种用于PVD离子源靶材的水冷结构，冷却效果好，易加工，易安装和拆卸。减少了水路占用空间。

附图说明

图1是本实用新型的结构示意图；

图2是本实用新型的结构示意图；

图3是涡旋盘的结构示意图；

图4是涡旋盘通水时的结构示意图；

图5是本实用新型通水时的结构示意图；

图中：铜靶座1、涡旋盘2、靶座绝缘垫3、里盖4、凸缘5、靶座压紧套6、外螺母7、通水管8、出水孔9、进水孔10、O型密封圈11、靶座绝缘套12、第二水流通道13、第二连通孔14、反流通道15、第一连通孔16、涡旋通道17、第三连通孔18、插孔19、过渡通道20、进水端21、出水端22。

具体实施方式

由图1-图3所示的一种用于PVD离子源靶材的水冷结构，包括依次设置的铜靶座1、涡旋盘2、靶座绝缘垫3和里盖4。