[实用新型]一种半导体涂胶晶片烘烤机构有效
申请号: | 202022909720.3 | 申请日: | 2020-12-07 |
公开(公告)号: | CN214896211U | 公开(公告)日: | 2021-11-26 |
发明(设计)人: | 钟兴进 | 申请(专利权)人: | 钟兴进 |
主分类号: | G03F7/40 | 分类号: | G03F7/40 |
代理公司: | 厦门仕诚联合知识产权代理事务所(普通合伙) 35227 | 代理人: | 邱冬新 |
地址: | 中国台湾新竹*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 半导体 涂胶 晶片 烘烤 机构 | ||
本实用新型涉及半导体技术领域,具体为一种半导体涂胶晶片烘烤机构,包括箱体,所述箱体包括烘烤机、烘烤盘、门板以及烘烤灯,所述烘烤机设置在箱体下半部分,所述烘烤盘设有多个包括滑动条与盛放架,所述滑动条设置在烘烤盘两端,将半导体涂胶晶片放置在烘烤盘内的烘烤机上,烘烤机上有晶片分置板,将涂胶晶片均匀分散放置烘烤,箱体内壁设有烘烤灯,每层烘烤盘的上方与下方也设置了烘烤灯,且烘烤灯两端嵌入箱体固定位置,有效避免了烘烤不均匀与烘烤时间过长的问题,烘烤过程中可以通过观察窗来观察设备内部运行状态。
技术领域
本实用新型涉及半导体技术领域,具体为一种半导体涂胶晶片烘烤机构。
背景技术
低温多晶硅(LTPS)工艺制程中,半导体涂胶晶片需要固定粘合,送到烤箱内进行烘烤,使光刻胶中的树脂和光敏化合物发生交联并回流焊,以提升穿透率,并将光阻硬化以及调整光阻图形锥化角。
目前,LTPS工艺制程使用的烤箱主要为热风干燥,相比较与红外干燥,其具有价格较低、挥发物处理对策较优、槽距较小,同等高度可对应较多炉层等优点,但现有的烤箱采用一体式加热方式,在出现异常或者破片时,需要整体关机停线,无法独立腔室处理,另外,当基板送进或取出烤箱时,由于烤箱内外温差较大,易造成玻璃基板、有机膜面、金属膜面等制程物质瞬间爆裂,从而导致显示器亮度不均匀以及质量问题。
实用新型内容
(一)解决的技术问题
针对现有技术的不足,本实用新型提供了一种烘烤均匀,使用方便的半导体涂胶晶片烘烤机构。
(二)技术方案
为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:一种半导体涂胶晶片烘烤机构,包括箱体,所述箱体包括烘烤机、烘烤盘、门板以及烘烤灯,所述烘烤机设置在箱体下半部分,所述烘烤盘设有多个,且所述烘烤盘设有多个盛放架,所述滑动条设置在烘烤盘两端,且所述滑动条与烘烤盘固定连接,所述盛放架设有多个且均匀分散在烘烤盘上并呈镂空状,所述烘烤机上设有晶片分置板,且所述烘烤机两端与烘烤盘焊接,所述箱体内设有多个滑槽,且所述滑槽嵌入箱体内壁,所述烘烤盘两端的滑动条与箱体内的滑槽活动连接,所述烘烤灯设有多个,且所述烘烤灯均匀设置在箱体的内壁与内部,所述门板包括铰接链、把手、观察窗以及密封胶条,所述门板通过铰接链安装在箱体上,所述门板外侧设有多个观察窗,且所述观察窗嵌入门板,所述把手焊接在门板外侧,所述密封条设置在门板内侧,所述箱体底端设有底轮,所述底轮焊接在箱体底部。
为了增加设备的实用性,本实用新型的改进有,所述箱体外侧设有隔热层。
为了方便设备使用,本实用新型的改进有,所述烘烤盘上设有隔热拉手。
为了方便观察内部情况,本实用新型的改进有,所述观察窗上设有耐高温涂层。
为了方便运输,本实用新型的改进有,所述底轮为橡胶万向轮。
为了增加设备的保温性,本实用新型的改进有,所述门板内侧的密封条为耐高温的橡胶材质。
为了增加设备的功能性,本实用新型的改进有,所述烘烤机外侧设有调节键。
(三)有益效果
与现有技术相比,本实用新型提供了一种半导体涂胶晶片烘烤机构,具备以下有益效果:
该半导体涂胶晶片烘烤机构,半导体涂胶晶片放置在烘烤盘内的烘烤机上,烘烤机上有晶片分置板,将涂胶晶片均匀分散放置烘烤,箱体内壁设有烘烤灯,每层烘烤盘的上方与下方也设置了烘烤灯,且烘烤灯两端嵌入箱体固定位置,有效避免了烘烤不均匀与烘烤时间过长的问题,将烘烤盘内放置好半导体晶片后,关闭门板,启动设备进行烘烤,烘烤过程中可以通过观察窗来观察设备内部运行状态。
附图说明
图1为本实用新型剖面结构示意图;
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