[实用新型]一种脱除光刻胶剥离液中非游离态树脂的系统有效
申请号: | 202022942350.3 | 申请日: | 2020-12-10 |
公开(公告)号: | CN214634616U | 公开(公告)日: | 2021-11-09 |
发明(设计)人: | 张昊;李志伟;李勍颖 | 申请(专利权)人: | 世源科技工程有限公司 |
主分类号: | B01D36/00 | 分类号: | B01D36/00;B01D35/18;B01D35/16;B01D35/12;B01D35/14 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 脱除 光刻 剥离 中非 游离态 树脂 系统 | ||
本实用新型提供一种脱除光刻胶剥离液中非游离态树脂的系统。所述系统包括过滤装置,所述过滤装置包括至少一个过滤器,用于过滤待处理的废剥离液中的非游离态树脂,所述过滤器中从上至下设置有一级滤芯和二级滤芯,所述二级滤芯中设有电加热单元,所述电加热单元为可通电发热的电阻丝,用于对流经所述二级滤芯的所述废剥离液加热,使所述废剥离液中的非游离态树脂析出在所述二级滤芯上。所述系统能够实现在线连续运行,工艺参数可控、装置稳定性高,低成本、易操作,且脱除后的剥离液中杂质含量显著降低,有利于后续剥离液精馏再生提纯工序的正常运行。
技术领域
本实用新型涉及光刻胶剥离液回收再生领域,尤其涉及用于光刻胶剥离回收再生的前处理工序中的一种脱除光刻胶剥离液中非游离态树脂的系统。
背景技术
半导体集成电路和显示器等工艺制造过程中,光刻胶(photo-resist)是光刻工艺中必不可少的物质,光刻工艺是为了制作如集成电路或者平板显示器件中的TFT控制电路而一般使用的工艺之一。在结束光刻工艺后,光刻胶在高温下由剥离液从器件上所去除。去除光刻胶的剥离液,是集成电路工艺中必须的化学品。工业上使用的剥离液主要是有机胺、有机溶剂的混合物,并含有少量以水以及微量的添加剂。在去除光刻胶的过程,主要是使用大量剥离液将剩余光刻胶充分溶解并带走,因此废剥离液中含有溶解或者非游离态的光刻胶成分,包括光刻胶中的酚醛树脂碎片,感光树脂等。剩余大部分都是有再利用价值的可回用组分。
为了回收剥离液中的有价值组分,会通过回收系统进行,废剥离液回收系统或者溶剂再生系统是利用剥离液中化学品沸点的不同,对废剥离液进行蒸发分馏实现精制再生,经调整复配后再回用于光刻胶剥离过程。在剥离液回收系统中,为了保证蒸发分馏系统可以正常运行,重要的一个步骤是除去剥离液中光刻胶的残余未溶解成分,以避免精馏过程中含有残余光刻胶的剥离液,在塔釜到塔顶温度剧烈变化状态下,树脂发生热变化或者因为突然冷却粘附或者板结在设备管道上,影响系统正常运行。由于这些树脂部分溶解在溶剂中呈非游离态,并且具有热敏的特性,目前所使用的溶剂回收方法大多采用精馏技术,在精馏时需要对含有光刻胶碎片及树脂的废剥离液进行加热,加热后树脂在高温下会析出并粘附在塔釜加热器管壁上,或者在塔顶冷却器突然冷却后,粘附在冷却器管壁上,由于树脂导热系数很低,长期沉积后影响换热器效率,并且粘附后的树脂和换热器管壁结合非常紧密,很难去除,影响装置操作的连续性。如果树脂去除不彻底,在相同的回收溶剂的纯度标准下,则废剥离液有效的溶剂回收率会下降。必须将部分含有高浓度树脂的剥离液作为废液排放,既降低了回收效率,也增加了废液的排放。
因此,现有的剥离液或者溶剂回收系统中,都会在精馏分离之前或者脱水分馏之后,对剥离液中的光刻胶树脂进分离或处理,以避免精馏时换热器管壁粘附的问题。现有的树脂分离或处理方法包括:光化学反应方法、旋转刮板(刀)蒸发、纳滤膜过滤、大孔吸附树脂吸附等。
这些不同方法在工程实践中有一定的脱除效果,但存在不足。由于剥离液中的光刻胶浓度过低,光化学反应方法只能使部分溶解的光刻胶发生变化,溶解于溶剂中,仍有残留树脂成分未脱除。旋转刮板设备,使用物理刮擦的方法使粘附在内壁上的树脂固体脱离,由于高温下树脂与容器内壁粘结非常紧密,长时间运行后仍需人工清洗设备内壁,影响操作连续性。纳滤膜过滤和大孔吸附树脂吸附方法可以比较有效的除去废剥离液中的大分子,但由于滤膜及吸附树脂孔洞小,极易被溶解的树脂堵塞,无法继续使用,也不便于再生,有效使用时间短并且不经济。
CN103721427A公开了一种抗蚀剂剥离液的再生方法以及再生装置。其中,该再生方法具有:低沸点分离工序,分离水等低沸点物质;高沸点分离工序,将含抗蚀剂的残留液和溶剂等作为分离物取出;残渣浓缩工序,将前述含抗蚀剂的残留液在残渣浓缩器内进一步浓缩,分离前述溶剂等并返回至前述高沸点分离工序;精制工序,从前述高沸点分离工序的分离物气化分离前述水的剩余部分作为废液B,将分离残留液作为剥离再生液取出;洗涤工序,使低沸点分离工序的分离残留液在前述残渣浓缩器内流下。
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