[实用新型]样品瓶清洗装置

说明书

本实用新型涉及一种样品瓶清洗装置，包括一具有上料口和下料口的密封腔室，所述密封腔室内包括多个功能槽，多个所述功能槽包括瓶盖拆装槽、清洗液填充槽、第一清洗槽、第二清洗槽和烘干槽，所述密封腔室内还包括用于在多个所述功能槽之间同时传送多个不同大小的样品瓶的传送结构。

技术领域

本实用新型涉及清洗干燥技术领域，尤其涉及一种样品瓶清洗装置。

背景技术

硅片是半导体制造业的基础材料，硅片表面及其少量的沾污都有可能导致器件功能失效或可靠性变差，因此硅片在制作使用过程中的杂质控制非常重要，对其进行的相关测试既是硅片制造过程中必不可少的监控手段，也是提升后续器件性能的重要方法和指标。生产过程中的沾污主要为：颗粒，金属杂质，有机物，自然氧化层，静电释放等，这些沾污的检测可以通过监测洁净间空气，人员，生产过程中的水，化学品(HF，HCL，NH4OH，H2O2等)及工艺气体，硅片表面及基体等方式来实现。然而在对这些沾污的检测过程中会受到各种因素的影响：(1)在取样过程中，环境的洁净程度，能否与外界的环境进行隔离；(2)人员取样及测试过程中对样品的污染；(3)在取样时样品瓶、取样工具的材质，是否专瓶专用，样品瓶的清洗状况等；(4)分析设备的精密度、稳定性及使用的测试方法等。这些因素都会对测试结果的准确性造成影响，无法客观的评价杂质的真实水平。

其中保证取样时，样品瓶的洁净度是测试过程中至关重要的一环。实验室使用的瓶子的形状尺寸大小不一，且材质各不相同，有的为一次性使用，需要直接废弃，有的价格昂贵，且可以循环使用，需要清洗之后再次使用。目前各实验室内大多数还是采用人工清洗的方式，缺乏相应的清洗工具使清洗效率低下，清洗不彻底，浪费大量人力。同时半导体行业中对金属离子的管控非常严格，需要达到1个ppt以下，因此在清洗过程中为了保证洁净度会用到HF， HNO3等比较危险的化学品，对人员造成一定的伤害。

实用新型内容

为了解决上述技术问题，本实用新型提供一种样品瓶清洗装置，解决不能同时对多个样品瓶进行清洗，且容易对人员造成伤害的问题。

为了达到上述目的，本实用新型实施例采用的技术方案是：一种样品瓶清洗装置，包括一具有上料口和下料口的密封腔室1，所述密封腔室1内包括多个功能槽，多个所述功能槽包括瓶盖拆装槽、清洗液填充槽、第一清洗槽、第二清洗槽和烘干槽，所述密封腔室内还包括用于在多个所述功能槽之间同时传送多个不同大小的样品瓶的传送结构。

可选的，每个所述功能槽为一个密封箱体结构，所述密封箱体结构包括自动开关门，使得样品瓶进入所述功能槽，或者从所述功能槽内输出。

可选的，所述传送结构包括：

传送机械臂；

设置于所述传送机械臂一端的固定盘，所述固定盘上设置多个固定孔；

与多个所述固定孔一一对应的多个夹持部，所述夹持部包括至少两个相对设置的夹持件，以及调节件，所述调节件用于控制至少两个所述夹持件相对移动以夹持样品瓶，所述夹持件位于对应的所述固定孔的边沿。

可选的，所述夹持部包括两个相对设置的弧形夹持件。

可选的，每个所述弧形夹持件的夹持面上设置有贯穿所述弧形夹持件设置的吸附孔，所述调节件包括与所述吸附孔连接的吸附管道，以及与所述吸附管道连接的真空泵。

可选的，所述瓶盖拆装槽内设置有第一机械手臂，所述第一机械手臂设置有开口大小可调的夹取部，所述夹取部夹取瓶盖后沿第一方向旋转以取下瓶盖，或者沿与所述第一方向相反的方向旋转以盖紧瓶盖。

可选的，所述夹取部包括至少两个相对设置的机械爪，至少两个机械爪相向或相背移动以调节至少两个机械爪之间的空间大小。

可选的，还包括用于向位于所述清洗液填充槽内的样品瓶填充清洗液的清洗液填充结构，