[实用新型]镀膜设备有效
申请号: | 202023021485.2 | 申请日: | 2020-12-15 |
公开(公告)号: | CN214830649U | 公开(公告)日: | 2021-11-23 |
发明(设计)人: | 周超;刘权辉;刘长明;张昕宇;于琨 | 申请(专利权)人: | 浙江晶科能源有限公司;晶科能源股份有限公司 |
主分类号: | C23C16/50 | 分类号: | C23C16/50 |
代理公司: | 上海晨皓知识产权代理事务所(普通合伙) 31260 | 代理人: | 成丽杰 |
地址: | 314416 浙江*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 镀膜 设备 | ||
1.一种镀膜设备,用于对电池片进行镀膜,其特征在于,包括:
上层腔室和下层腔室,所述上层腔室与所述下层腔室相互独立;
支撑架,所述支撑架用于承载所述上层腔室,以使所述上层腔室位于所述下层腔室上;
进料平台和出料平台,所述上层腔室和所述下层腔室共用所述进料平台和出料平台;所述进料平台和所述出料平台位于所述上层腔室相对的两侧;
所述下层腔室包括下层腔体和下层腔盖,所述下层腔盖用于密封所述下层腔体,所述下层腔盖包括相连接的第一腔盖和第二腔盖;所述第一腔盖包括相对的第一侧和第二侧,所述第二腔盖包括相对的第三侧和第四侧;
所述上层腔室包括上层腔体及上层腔盖,所述上层腔盖用于密封所述上层腔体;
所述的镀膜设备还包括:第一驱动部,所述第一驱动部与所述下层腔盖连接,并驱动所述第一侧和所述第四侧相对于所述下层腔体升降,使得所述下层腔体打开或密闭。
2.根据权利要求1所述的镀膜设备,其特征在于,所述第一驱动部包括:转盘、第一连接线和第二连接线,所述第一连接线将所述第一侧与所述转盘连接,所述第二连接线将所述第四侧与所述转盘连接;所述转盘固定于所述上层腔室的底部,所述转盘转动带动所述第一连接线以及所述第二连接线缠绕于所述转盘上,或者,带动所述第一连接线以及所述第二连接线从所述转盘上释放。
3.根据权利要求1所述的镀膜设备,其特征在于,所述第一驱动部包括:转盘、第一连接线和第二连接线、第一定滑轮、第二定滑轮、第三定滑轮、第四定滑轮、第一动滑轮和第二动滑轮;
所述转盘固定于所述支撑架上;所述第一定滑轮和所述第二定滑轮固定于所述上层腔体的底部;所述第三定滑轮和所述第四定滑轮固定于所述下层腔体上;所述第一动滑轮固定于所述第一侧,所述第二动滑轮固定于所述第四侧;所述第一连接线的一端固定于所述上层腔室的底部,并依次穿过第一动滑轮、第一定滑轮、第三定滑轮和第四定滑轮,所述第一连接线的另一端与所述转盘连接;所述第二连接线的一端固定于所述上层腔室的底部,并依次穿过第二动滑轮、第二定滑轮、第三定滑轮和第四定滑轮,所述第二连接线的另一端与所述转盘连接;以使所述转盘转动带动所述第一连接线以及所述第二连接线缠绕于所述转盘上,或者,带动所述第一连接线以及所述第二连接线从所述转盘上释放。
4.根据权利要求1所述的镀膜设备,其特征在于,所述下层腔盖还包括连接所述第二侧和所述第三侧的连接件,所述连接件固定于所述下层腔体上;所述第一驱动部驱动所述第一侧及所述第四侧相对于所述下层腔体升降时,所述第二侧及所述第三侧以所述连接件为中心进行旋转。
5.根据权利要求4所述的镀膜设备,其特征在于,所述连接件为连接轴,所述第一腔盖包括凸起部,所述凸起部位于第二侧,所述第二腔盖包括凹陷部,所述凹陷部位于第三侧,所述凸起部与所述凹陷部相匹配;所述连接轴贯穿所述凸起部和所述凹陷部;所述第一驱动部驱动所述第一侧及所述第四侧相对于所述下层腔体升降时,所述凸起部和所述凹陷部以所述连接轴为中心进行旋转。
6.根据权利要求4所述的镀膜设备,其特征在于,所述连接件包括连接轴以及位于连接轴两侧的第一固定部和第二固定部,所述第二侧固定在所述第一固定部上,所述第三侧固定在所述第二固定部上;所述第一驱动部驱动所述第一侧及所述第四侧相对于所述下层腔体升降时,所述第一固定部带动所述第二侧以所述连接轴为中心进行旋转;所述第二固定部带动所述第三侧以所述连接轴为中心进行旋转。
7.根据权利要求1所述的镀膜设备,其特征在于,还包括:第二驱动部,所述第二驱动部与所述上层腔盖连接;所述上层腔盖包括相对的第五侧和第六侧,所述第五侧作为支点固定于所述上层腔体上;在所述第二驱动部的驱动下,所述第六侧相对于所述上层腔体进行升降,以使所述上层腔体打开或密闭。
8.根据权利要求1所述的镀膜设备,其特征在于,所述上层腔室和所述下层腔室距离,大于或等于所述第一腔盖及所述第二腔盖在垂直于所述第一侧的方向上的宽度。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的