[实用新型]镀膜设备

说明书

本实用新型实施例提供一种镀膜设备，包括上层腔室和下层腔室，上层腔室与下层腔室相互独立；支撑架，支撑架用于承载上层腔室，以使上层腔室位于下层腔室上；进料平台和出料平台，上层腔室和下层腔室共用进料平台和出料平台；进料平台和出料平台位于上层腔室相对的两侧；下层腔室包括下层腔体和下层腔盖，下层腔盖用于密封下层腔体，下层腔盖包括相连接的第一腔盖和第二腔盖；第一腔盖包括相对的第一侧和第二侧，第二腔盖包括相对的第三侧和第四侧；镀膜设备还包括：第一驱动部，第一驱动部与下层腔盖连接，并驱动第一侧和第四侧相对于下层腔体升降，使得下层腔体打开或密闭。本实用新型实施例提供的镀膜设备能合理利用厂房空间并且能提高产能。

技术领域

本实用新型实施例涉及太阳能领域，特别涉及一种镀膜设备。

背景技术

PECVD(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition)镀膜设备属于一种镀膜设备，可以用于在太阳能电池片的表面形成减反膜或钝化膜，以降低太阳能电池片对光线的反射率或降低载流子复合几率，进而提高太阳能电池片的光电转换效率。

PECVD镀膜设备主要包括板式PECVD镀膜设备和管式PECVD镀膜设备。板式PECVD镀膜设备的工作原理是：多片太阳能电池片放置在一个石墨或碳纤维支架上后，传送至沉积腔室中；腔室中有平板型的电极，腔室中的工艺气体在两个极板之间的交流电场的作用下形成等离子体，进而在太阳能电池片的表面沉积减反膜或钝化膜。管式PECVD镀膜的工作原理是：采用石英管作为沉积腔室，采用电阻炉作为加热体，将一个可以放置多片太阳能电池片的石墨舟插进石英管中进行沉积。

然而，现目前PECVD镀膜设备的产能还有待提升。

实用新型内容

本实用新型实施例提供一种镀膜设备，以提高镀膜设备的产能。

为解决上述问题，本实用新型实施例提供一种镀膜设备，用于对电池片进行镀膜，包括：上层腔室和下层腔室，所述上层腔室与所述下层腔室相互独立；支撑架，所述支撑架用于承载所述上层腔室，以使所述上层腔室位于所述下层腔室上；进料平台和出料平台，所述上层腔室和所述下层腔室共用所述进料平台和出料平台；所述进料平台和所述出料平台位于所述上层腔室相对的两侧；所述下层腔室包括下层腔体和下层腔盖，所述下层腔盖用于密封所述下层腔体，所述下层腔盖包括相连接的第一腔盖和第二腔盖；所述第一腔盖包括相对的第一侧和第二侧，所述第二腔盖包括相对的第三侧和第四侧；所述的镀膜设备还包括：第一驱动部，所述第一驱动部与所述下层腔盖连接，并驱动所述第一侧和所述第四侧相对于所述下层腔体升降，使得所述下层腔体打开或密闭。

另外，所述第一驱动部包括：转盘、第一连接线和第二连接线，所述第一连接线将所述第一侧与所述转盘连接，所述第二连接线将所述第四侧与所述转盘连接；所述转盘固定于所述上层腔室的底部，所述转盘转动带动所述第一连接线以及所述第二连接线缠绕于所述转盘上，或者，带动所述第一连接线以及所述第二连接线从所述转盘上释放。

另外，所述第一驱动部包括：转盘、第一连接线和第二连接线、第一定滑轮、第二定滑轮、第三定滑轮、第四定滑轮、第一动滑轮和第二动滑轮；所述转盘固定于所述支撑架上；所述第一定滑轮和所述第二定滑轮固定于所述上层腔体的底部；所述第三定滑轮和所述第四定滑轮固定于所述下层腔体上；所述第一动滑轮固定于所述第一侧，所述第二动滑轮固定于所述第四侧；所述第一连接线的一端固定于所述上层腔室的底部，并依次穿过第一动滑轮、第一定滑轮、第三定滑轮和第四定滑轮，所述第一连接线的另一端与所述转盘连接；所述第二连接线的一端固定于所述上层腔室的底部，并依次穿过第二动滑轮、第二定滑轮、第三定滑轮和第四定滑轮，所述第二连接线的另一端与所述转盘连接；以使所述转盘转动带动所述第一连接线以及所述第二连接线缠绕于所述转盘上，或者，带动所述第一连接线以及所述第二连接线从所述转盘上释放。