[实用新型]一种具有自动停止装置的蓝宝石双面抛光机有效

专利信息
申请号: 202023022847.X 申请日: 2020-12-15
公开(公告)号: CN213795934U 公开(公告)日: 2021-07-27
发明(设计)人: 裴亚利;赵雪振;操应军;朱晓辉;刘阳 申请(专利权)人: 北京航天赛德科技发展有限公司
主分类号: B24B37/08 分类号: B24B37/08;B24B37/005;B24B37/34;B24B49/12;B24B55/00
代理公司: 北京方韬法业专利代理事务所(普通合伙) 11303 代理人: 马丽莲
地址: 100000 北京市*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 具有 自动 停止 装置 蓝宝石 双面 抛光机
【说明书】:

实用新型公开了一种具有自动停止装置的蓝宝石双面抛光机,所述自动停止装置包括支架、激光位移传感器和探测模块,所述支架包括呈倒置的L形,包括竖直段和水平段,所述水平段为伸缩杆结构并与竖直段转动连接,使得水平段能够在水平平面内转动且长度能够调整;所述激光位移传感器安装在支架水平段末端,激光竖直向下发射;所述探测模块与激光位移传感器电连接;所述支架安装在机台上,并使激光位移传感器位于抛光盘的上方,激光位移传感器监测抛光盘位移量,探测模块根据位移量控制抛光机的停止。本实用新型能够自动监测是否出现跑片,当出现跑片时及时停止机台的运行,避免了机台设备的进一步损伤。

技术领域

本实用新型涉及蓝宝石双面抛光加工技术领域,特别是涉及一种具有自动停止装置的蓝宝石双面抛光机。

背景技术

随着蓝宝石的应用越来越广泛,针对蓝宝石的各种加工方法的研究成为了热点,尤其是在蓝宝石的研磨和高精密的抛光方面开展了大量的研究,化学机械抛光(CMP)是目前唯一能够实现蓝宝石晶片全局平面化的实用核心技术。然而,CMP抛光仍然存在很多问题,例如双面抛光机台抛光过程中,由于运转不当会导致晶片碎裂,如不及时急停会导致抛光盘产生深划痕,甚至机台受损。目前,大多数机台均是人工急停装置,由于双面抛光,普遍存在抛光时间长,每个人需要运行多台抛光机,有时机台出现状况,不能及时去按急停,导致跑片后,抛光布被划坏,游星轮变形,甚至严重会导致机台大盘被划伤。

由此可见,现有的抛光机在结构与使用上存在不足,而亟待进一步改进。如何能创设一种具有自动停止装置的蓝宝石双面抛光机,实属当前重要研发课题之一。

实用新型内容

本实用新型要解决的技术问题是提供一种具有自动停止装置的蓝宝石双面抛光机,使其能够自动监测是否出现跑片,并在发生跑片后及时停止机台的运行,避免设备发生更严重的损坏,从而克服现有技术中蓝宝石抛光机的不足。

为解决上述技术问题,本实用新型提供一种具有自动停止装置的蓝宝石双面抛光机,所述自动停止装置包括支架、激光位移传感器和探测模块,其中:

所述支架包括呈倒置的L形,包括竖直段和水平段,所述水平段为伸缩杆结构并与竖直段转动连接,使得水平段能够在水平平面内转动且长度能够调整;

所述激光位移传感器安装在支架水平段末端,激光竖直向下发射;

所述探测模块与激光位移传感器电连接;

所述支架安装在机台上,并使激光位移传感器位于抛光盘的上方,激光位移传感器监测抛光盘位移量,探测模块根据位移量控制抛光机的停止。

作为本实用新型的一种改进,所述支架的竖直段底部设置有底座,所述底座用于通过螺钉与抛光机的机台连接。

进一步地,所述支架的材质为316不锈钢或耐酸碱氟材料。

进一步地,所述支架的水平段与竖直段之间设置有旋转伸缩固定钮,用于锁紧水平段的长度和转动角度。

进一步地,所述激光位移传感器的量程为0mm~200mm,精度为偏差<1mm。

进一步地,所述激光位移传感器的出射激光光线与支架的水平段之间呈90°。

进一步地,所述激光位移传感器在抛光盘上盘与抛光盘下盘压合状态下,距离抛光盘上盘的间距为150mm,间距偏差<1mm。

进一步地,所述探测模块设定自动停止的条件为蓝宝石晶片高度与预设值之间的偏差大于5mm。

进一步地,所述机台上固定两台所述自动停止装置,固定点距离抛光盘圆心10cm,两个固定点对称设置于抛光盘的左前和右后。

采用这样的设计后,本实用新型至少具有以下优点:

自动监测是否出现跑片,当出现跑片时及时停止机台的运行,避免了机台设备的进一步损伤。

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