[实用新型]一种含氟C4F8电子气体纯化设备

说明书

本实用新型采用介绍了一种含氟C4F8电子气体纯化设备，包括分子筛装置、多级吸附装置、精馏装置，分子筛装置输入端与含氟C4F8电子气体联通，分子筛装置输出端通过管路与多级吸附装置输入端联通，多级吸附装置输出端通过管路与精馏装置联通；分子筛装置为由多个的3A分子筛并联联通组成。本实用新型通过分子筛装置的吸附除杂，及第一吸附装置、第二吸附装置至第N吸附装置的多次吸附除杂，然后再经精馏装置的精馏、冷疑和再沸脱去杂质，得到高纯的含氟C4F8电子气体；结构简单，生产成本低，操作方便。

技术领域

本实用新型涉及气体提纯技术领域，尤其涉及一种含氟C4F8电子气体纯化设备。

背景技术

随着超大规模集成电路、LED技术的迅速发展，C4F8电子气体需求量的年增长率保持在30%以上，由于C4F8电子气体中氧含量杂子对半导体IC制程的光刻工艺影响比较大，为此，降低电子气体中氧含量杂子，是提高C4F8电子气体的高纯度途径。现有技术中的含氟C4F8电子气体的提纯，是当前需要解决的问题。

发明内容

为解决现有技术中存在的上述技术问题，本实用新型目的在于提供一种含氟C4F8电子气体纯化设备。

为实现上述发明目的，本实用新型采用如下技术方案：

一种含氟C4F8电子气体纯化设备，包括：分子筛装置、多级吸附装置、精馏装置，所述分子筛装置输入端与含氟C4F8电子气体联通，分子筛装置输出端通过管路与多级吸附装置输入端联通，多级吸附装置输出端通过管路与精馏装置联通；所述分子筛装置为多个的3A分子筛并联联通组成。

一种含氟C4F8电子气体纯化设备，所述多级吸附装置为多个由第一吸附装置至第二吸附装置串联组成，每个吸附装置由若干吸附器通过阀门及管道并联联通组成。

一种含氟C4F8电子气体纯化设备，所述精馏装置由精馏塔、冷疑器和再沸器组成，所述精馏塔顶端连接冷疑器，精馏塔顶端连接再沸器。

由于采用如上所述技术方案，本实用新型具有以下有益效果：

一种含氟C4F8电子气体纯化设备，通过分子筛装置的吸附除杂，及第一吸附装置、第二吸附装置至第N吸附装置的多次吸附除杂，然后再经精馏装置的精馏、冷疑和再沸脱去杂质，得到高纯的含氟C4F8电子气体。其结构简单，生产成本低，操作方便。

附图说明

图1含氟C4F8电子气体纯化设备的实施图。

图中，1-分子筛装置，1.1-3A分子筛，1.2-3A分子筛，2-第一吸附装置，2.1-吸附器，2.2-吸附器，3-第N吸附装置，4-精馏装置，4.1-精馏塔，4.2-冷疑器，4.3-再沸器。

具体实施方式

以下实例仅仅是进一步说明本实用新型，并不是限制本实用新型保护的范围。

如图1所示，一种含氟C4F8电子气体纯化设备，包括：分子筛装置1、多级吸附装置、精馏装置4，所述分子筛装置1输入端与含氟C4F8电子气体粗品联通，分子筛装置1输出端通过管路与多级吸附装置输入端联通，多级吸附装置输出端通过管路与精馏装置4联通；所述分子筛装置为多个的3A分子筛1.1、3A分子筛1.2并联联通。或4A至5A分子筛组成中的一种。

所述多级吸附装置为多个由第一吸附装置2、第二吸附装置至第N吸附装置3串联组成，每个吸附装置由若干吸附器2.1、吸附器2.2通过阀门及管道并联联通。所述精馏装置4由精馏塔4.1、冷疑器4.2和再沸器4.3组成，所述精馏装置4顶端连接冷疑器，精馏塔底端连接再沸器4.3。

本实用新型C4F8电子气体粗品先经过分子筛吸附除去水分，再进入第一吸附装置、第二吸附装置至第N吸附装置的吸附作用，吸附后的含氟C4F8电子气体再经过精馏装置精馏、冷疑和再沸脱去杂质，得到高纯的含氟C4F8电子气体。