[实用新型]一种原子层沉积设备有效
申请号: | 202023084484.2 | 申请日: | 2020-12-18 |
公开(公告)号: | CN213772206U | 公开(公告)日: | 2021-07-23 |
发明(设计)人: | 余浩;单伟;何胜;徐伟智;黄海燕;陆川 | 申请(专利权)人: | 海宁正泰新能源科技有限公司;浙江正泰太阳能科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455;C23C16/44;C23C16/40 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 王晓坤 |
地址: | 314415 浙江*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 原子 沉积 设备 | ||
1.一种原子层沉积设备,包括工艺腔室、导轨、传送带,其特征在于,还包括位于所述工艺腔室中的静电除尘设备;
所述静电除尘设备包括电源、与所述电源的第一电极相连的放电体、与所述电源的第二电极相连的集尘板。
2.如权利要求1所述的原子层沉积设备,其特征在于,所述放电体为柱状放电体或者板条状放电体。
3.如权利要求2所述的原子层沉积设备,其特征在于,所述放电体的侧面为锯齿状。
4.如权利要求1所述的原子层沉积设备,其特征在于,所述放电体的数量为多个。
5.如权利要求4所述的原子层沉积设备,其特征在于,所述放电体均匀分布在所述工艺腔室中。
6.如权利要求1所述的原子层沉积设备,其特征在于,所述集尘板的数量为多个,所述集尘板在所述工艺腔室中上下相对设置。
7.如权利要求2所述的原子层沉积设备,其特征在于,所述柱状放电体的直径在0.3毫米至10毫米之间,包括端点值。
8.如权利要求2所述的原子层沉积设备,其特征在于,所述板条状放电体的厚度在0.3毫米至15毫米之间,包括端点值。
9.如权利要求1所述的原子层沉积设备,其特征在于,所述放电体为镍铬合金放电体或者钢质放电体。
10.如权利要求1至9任一项所述的原子层沉积设备,其特征在于,还包括:
开关,所述开关位于所述电源与所述放电体之间或者位于所述电源与所述集尘板之间。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的