[实用新型]一种原子层沉积设备

说明书

本申请公开了一种原子层沉积设备，包括工艺腔室、导轨、传送带，还包括位于所述工艺腔室中的静电除尘设备；所述静电除尘设备包括电源、与所述电源的第一电极相连的放电体、与所述电源的第二电极相连的集尘板。放电体与电源的第一电极相连，集尘板与电源的第二电极相连，接通后放电体周围空气被电离形成电离区，电离区中与第一电极极性相反的带电离子向放电体移动，与第一电极极性相同的带电离子向电离区外移动，使得石墨粉尘带电，在库仑力的作用下石墨粉尘向与第二电极相连的集尘板移动，沉积在集尘板上，定时清理集尘板即可，减少硅片表面石墨粉尘的聚集，改善EL黑点和黑斑问题，提升电池生产良率。

技术领域

本申请涉及半导体设备技术领域，特别是涉及一种原子层沉积设备。

背景技术

随着对光伏电池光电转化效率的预期不断提高，推动相关企业和研究机构对此展开研发。背钝化技术是近期光伏行业研究的焦点，该技术利用Al₂O_x薄膜提供化学钝化和场钝化作用，可以大大降低背表面的复合损失，提升光电转化效率。通常硅片背面钝化采用热氧生成二氧化硅，再通过原子层积(Atomic layer deposition,ALD)的方式在背面生长一层Al₂O_x薄膜，最后再通过等离子体增强化学气相沉积方式在Al₂O_x薄膜上面层积一层SiN_x薄膜，以进一步提升钝化效果。

目前，原子层沉积设备制备Al₂O_x薄膜通常采用石墨载板作为硅片的承载工装治具，该石墨载板通过导轨循环在不同真空加热腔和真空工艺腔进行工艺操作。在生产过程中，石墨载板传输过程中与传输皮带、边缘导轮摩擦，碰撞会导致石墨载板掉粉，另外，石墨载板表面多次层积Al₂O_x薄膜会导致表面粉尘积累。石墨载板上的各种粉尘会在真空腔室反复抽真空操作中掉落在硅片上成为污染源。目前通常采用定时保养清理腔室的方法来降低风险，但是保养操作只能人为清理明显的粉尘积累，对于微量粉尘往往不能很好控制，仍然会对硅片造成污染，引起EL黑斑和黑点等问题，导致电池良率低。

因此，如何解决上述技术问题应是本领域技术人员重点关注的。

实用新型内容

本申请的目的是提供一种原子层沉积设备，以去除原子层沉积设备中的粉尘，减少硅片表面的粉尘污染。

为解决上述技术问题，本申请提供一种原子层沉积设备，包括工艺腔室、导轨、传送带，还包括位于所述工艺腔室中的静电除尘设备；

所述静电除尘设备包括电源、与所述电源的第一电极相连的放电体、与所述电源的第二电极相连的集尘板。

可选的，所述放电体为柱状放电体或者板条状放电体。

可选的，所述放电体的侧面为锯齿状。

可选的，所述放电体的数量为多个。

可选的，所述放电体均匀分布在所述工艺腔室中。

可选的，所述集尘板的数量为多个，所述集尘板在所述工艺腔室中上下相对设置。

可选的，所述柱状放电体的直径在0.3毫米至10毫米之间，包括端点值。

可选的，所述板条状放电体的厚度在0.3毫米至15毫米之间，包括端点值。

可选的，所述放电体为镍铬合金放电体或者钢质放电体。

可选的，还包括：

开关，所述开关位于所述电源与所述放电体之间或者位于所述电源与所述集尘板之间。