[实用新型]一种晶圆缓存装置和化学机械抛光系统

权利要求书

1.一种晶圆缓存装置，其特征在于，包括支撑架和检测组件，所述支撑架用于水平支撑晶圆，所述检测组件设置于所述支撑架的外周侧；所述检测组件包括信号收发部、反射部和遮光板，所述遮光板罩设于所述反射部的侧部，其上设置有透光孔，所述信号收发部输出的光信号朝向所述反射部发射，光信号经由所述透光孔入射至所述反射部，再自所述反射部经由所述透光孔发射至所述信号收发部。

2.如权利要求1所述的晶圆缓存装置，其特征在于，所述信号收发部倾斜朝向支撑架所在平面发射光信号，其倾斜角度小于10°。

3.如权利要求1所述的晶圆缓存装置，其特征在于，所述遮光板包括顶板和凸台，所述凸台设置于所述顶板的两端以形成U形结构；所述顶板的尺寸与所述反射部的外形相匹配。

4.如权利要求1所述的晶圆缓存装置，其特征在于，所述透光孔为贯通孔，其偏心设置于所述遮光板的顶板。

5.如权利要求4所述的晶圆缓存装置，其特征在于，所述透光孔为腰形孔，所述腰形孔的中心位于所述遮光板的水平中线下侧。

6.如权利要求5所述的晶圆缓存装置，其特征在于，所述腰形孔的中心与所述遮光板的水平中线的距离为1mm-3mm。

7.如权利要求3所述的晶圆缓存装置，其特征在于，所述遮光板由非金属材料制成，所述顶板涂覆有抗反射涂层。

8.如权利要求7所述的晶圆缓存装置，其特征在于，所述遮光板由聚四氟乙烯制成，所述抗反射涂层的厚度为0.001mm-0.1mm。

9.如权利要求1所述的晶圆缓存装置，其特征在于，所述支撑架的数量为多个，其沿竖直方向间隔设置；相邻支撑架配置的检测组件的信号收发部和反射部交错设置。

10.一种化学机械抛光系统，其特征在于，包括权利要求1至9任一项所述的晶圆缓存装置。