[实用新型]真空蚀刻机

说明书

本实用新型公开了真空蚀刻机，包括箱体和旋转带动盘，所述箱体内壁中端设有旋转带动盘，所述旋转带动盘的内壁上下两端均固定连接有支撑架，所述旋转带动盘的内壁右侧固定连接有支撑架，所述旋转带动盘底段通过支撑架设有左位喷淋电极箱，所述旋转带动盘顶段通过支撑架设有右位喷淋电极箱，所述旋转带动盘右端通过支撑架设有电控吸附箱，所述电控吸附箱的左端底段固定连接有第一吸附口，所述电控吸附箱的左端顶段固定连接有第二吸附口，所述旋转带动盘内壁中端设有定位放置盘，涉及蚀刻机技术领域，通过可变动蚀刻相对所在方向缓解了蚀刻后板面上下表面均匀性不足的问题，通过底部独立吸附又集中排出缓解了吸附溶液时不够均匀有残留的问题。

技术领域

本实用新型涉及蚀刻机技术领域，具体为真空蚀刻机。

背景技术

蚀刻机可以分为化学蚀刻机及电解蚀刻机两类，在化学蚀刻中是使用化学溶液，经由化学反应以达到蚀刻的目的，化学蚀刻机是将材料用化学反应或物理撞击作用而移除的技术，而真空蚀刻机也是属于蚀刻机的一种，因为拥有诸多实用优点，所以使用十分广泛，但是传统的真空蚀刻机在使用时还是存在着很多的问题。

传统的真空蚀刻机存在：1.由于上下表面的喷射蚀刻角度与水池效应均不同，所以导致蚀刻后的上下表面均匀性不足的问题。2.在每道蚀刻工序暂时完成时需要将板面的溶液吸附排出，此时通常位于侧面的吸附结构会存在由于远近距离的差距导致的吸附不均匀有残留的问题。

实用新型内容

(一)解决的技术问题

针对现有技术的不足，本实用新型提供了真空蚀刻机，通过可变动蚀刻相对所在方向缓解了蚀刻后板面上下表面均匀性不足的问题，通过底部两侧独立吸附又集中排出缓解了吸附溶液时不够均匀有残留的问题。

(二)技术方案

为实现以上目的，本实用新型通过以下技术方案予以实现：真空蚀刻机，包括箱体和旋转带动盘，所述箱体内壁中端设有旋转带动盘，所述旋转带动盘的内壁上下两端均固定连接有支撑架，所述旋转带动盘的内壁右侧固定连接有支撑架，所述旋转带动盘底段通过支撑架设有左位喷淋电极箱，所述旋转带动盘顶段通过支撑架设有右位喷淋电极箱，所述旋转带动盘右端通过支撑架设有电控吸附箱，所述电控吸附箱的左端底段固定连接有第一吸附口，所述电控吸附箱的左端顶段固定连接有第二吸附口，所述旋转带动盘内壁中端设有定位放置盘。

优选的，所述左位喷淋电极箱右端固定连接有电极喷液口，所述右位喷淋电极箱左端固定连接有电极喷液口。

优选的，所述旋转带动盘外壁一周均匀设有齿槽，所述箱体顶段左端内壁设有驱动电机，所述驱动电机传动连接转轴，所述转轴外壁固定连接驱动齿轮，所述驱动齿轮由箱体内壁啮合连接齿槽。

优选的，所述箱体中端内壁底部设有承重轴，所述承重轴外壁固定连接从动齿轮，所述从动齿轮由箱体内壁啮合连接齿槽。

优选的，所述箱体内壁底段固定连接有操作台，所述操作台由箱体内壁位于旋转带动盘前端。

优选的，所述箱体前侧外壁上下两端设有铰链，所述箱体前侧外壁通过铰链连接有箱门。

(三)有益效果

本实用新型提供了真空蚀刻机。具备以下有益效果：