[实用新型]一种半导体外延结构及其应用有效
申请号: | 202023135186.1 | 申请日: | 2020-09-21 |
公开(公告)号: | CN214588890U | 公开(公告)日: | 2021-11-02 |
发明(设计)人: | 陈卫军;刘美华 | 申请(专利权)人: | 深圳市晶相技术有限公司 |
主分类号: | H01L33/32 | 分类号: | H01L33/32;H01L27/15 |
代理公司: | 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 | 代理人: | 朱艳 |
地址: | 518000 广东省深圳市坪山*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 半导体 外延 结构 及其 应用 | ||
1.一种半导体外延结构,其特征在于,包括:
基板;
第一氮化铝层,形成于所述基板上;
第一氮化镓层,形成于所述氮化铝层上;
第二氮化铝层,形成于所述第一氮化镓层上;以及
第二氮化镓层,形成于所述第二氮化铝层上。
2.根据权利要求1所述的半导体外延结构,其特征在于:所述半导体外延结构还包多个氮化铝夹层,其间隔设置于所述第一氮化镓层或所述第二氮化镓层内部。
3.一种半导体器件,其特征在于,包括:根据权利要求1所述的半导体外延结构。
4.一种电子装置,其特征在于,包括:根据权利要求3所述的半导体器件。
5.一种发光二极管结构,其特征在于,包括:根据权利要求1所述的半导体外延结构。
6.一种微型发光二极管芯片,其特征在于,包括:根据权利要求5所述的发光二极管结构。
7.一种微发光二极管面板,其特征在于,包括:根据权利要求5所述的发光二极管结构。
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