[实用新型]镀膜设备

权利要求书

1.一种镀膜设备，其特征在于，包括：

第一镀膜机构，包括第一镀膜腔体及第一运输组件，所述第一运输组件可带动基片匀速通过所述第一镀膜腔体，所述第一镀膜腔体用于在所述基片相对的两面镀设第一膜层；

第二镀膜机构，包括第二镀膜腔体及第二运输组件，所述第二运输组件用于带动镀设有所述第一膜层的所述基片进出所述第二镀膜腔体，所述第二镀膜腔体用于在其中一个所述第一膜层上镀设第二膜层；及

第三镀膜机构，包括第三镀膜腔体及第三运输组件，所述第三运输组件用于带动镀设有所述第二膜层的所述基片进出所述第三镀膜腔体，所述第三镀膜腔体用于在另中一个所述第一膜层上镀设第三膜层。

2.根据权利要求1所述的镀膜设备，其特征在于，所述第一镀膜机构还包括分别位于所述第一镀膜腔体两端的载入腔及载出腔，所述第一运输组件可带动所述基片依次通过所述载入腔、所述第一镀膜腔体及所述载出腔。

3.根据权利要求1所述的镀膜设备，其特征在于，所述第一镀膜机构还包括氢处理工艺腔及位于所述氢处理工艺腔与所述第一镀膜腔体之间的隔离件，所述第一运输组件可带动所述基片经所述氢处理工艺腔及所述隔离件，进入所述第一镀膜腔体。

4.根据权利要求3所述的镀膜设备，其特征在于，所述隔离件为第一隔离腔或气帘。

5.根据权利要求1所述的镀膜设备，其特征在于，所述第一运输组件包括用于承载所述基片的第一托盘及带动所述第一托盘循环的第一回传系统，所述第一托盘的中部镂空，以暴露所述基片相对的两个表面。

6.根据权利要求5所述的镀膜设备，其特征在于，所述第二运输组件包括用于承载所述基片的第二托盘及带动所述第二托盘进出所述第二镀膜腔体的第二回传系统；

所述第三运输组件包括用于承载所述基片的第三托盘及带动所述第三托盘进出所述第三镀膜腔体的第三回传系统，所述第二托盘及所述第三托盘均为板状结构，以覆盖所述基片的其中一个表面。

7.根据权利要求6所述的镀膜设备，其特征在于，还包括：

设于所述第一镀膜机构与所述第二镀膜机构之间的取片机构，所述取片机构用于将所述第一托盘上的所述基片转移至所述第二托盘；

设于所述第二镀膜机构与所述第三镀膜机构之间的翻片机构，所述翻片机构用于将所述第二托盘上的所述基片翻转并转移至所述第三托盘。

8.根据权利要求6所述的镀膜设备，其特征在于，所述第二回传系统为双层结构，且所述第二回传系统其中一层将所述第二托盘从外部传入所述第二镀膜腔体，另一层将所述第二托盘从所述第二镀膜腔体内传出；

所述第三回传系统为双层结构，且所述第三回传系统其中一层将所述第三托盘从外部传入所述第三镀膜腔体，另一层将所述第三托盘从所述第三镀膜腔体内传出。

9.根据权利要求1所述的镀膜设备，其特征在于，所述第二镀膜机构还包括第二过渡腔，所述第二运输组件经所述第二过渡腔带动所述基片进出所述第二镀膜腔体；

所述第三镀膜机构还包括第三过渡腔，所述第三运输组件经所述第三过渡腔带动所述基片进出所述第三镀膜腔体。

10.根据权利要求1所述的镀膜设备，其特征在于，所述第二镀膜机构为多个，且经过所述第一镀膜腔体镀设所述第一膜层的所述基片可转移至任一个所述第二镀膜机构，所述第三镀膜机构为多个，且经过所述第二镀膜腔体镀设所述第二膜层的所述基片可转移至任一个所述第三镀膜机构。