[实用新型]掩膜装置

权利要求书

1.一种掩膜装置，包括金属掩膜网和掩膜支撑框架，所述金属掩膜网固定在所述掩膜支撑框架上且所述金属掩膜网包括多个掩膜开口，其特征在于，所述掩膜支撑框架包括：

外框，所述外框具有方环结构，所述外框包括沿第一方向延伸的第一边框和沿第二方向延伸的第二边框，所述第二边框上设置有多个第一凹槽；

多个第一支撑架，每个所述第一支撑架包括位于中段的第一支撑结构和位于两端的第一固定结构；每个所述第一支撑架沿所述第一方向延伸且其两端的第一固定结构与所述第二边框上的第一凹槽配合固定；

其中，每个所述第一支撑架上的第一固定结构尺寸相同；其中至少一个所述第一支撑架上的第一支撑结构与其他所述第一支撑架上的第一支撑结构沿所述第二方向的宽度不同；

其中，所述第一方向垂直于所述第二方向。

2.根据权利要求1所述的掩膜装置，其特征在于，至少一个所述第一支撑架上的第一支撑结构与其他所述第一支撑架上的第一支撑结构沿垂直于所述金属掩膜网的方向的厚度不同。

3.根据权利要求1或2所述的掩膜装置，其特征在于，所述第一边框上设置有多个第二凹槽；所述掩膜支撑框架还包括多个第二支撑架，每个所述第二支撑架包括位于中段的第二支撑结构和位于两端的第二固定结构；每个所述第二支撑架沿所述第二方向延伸且其两端的第二固定结构与所述外框上的第二凹槽配合固定；其中，

每个所述第一支撑结构上设置有多个第一限位凹槽，每个所述第二支撑结构沿所述第二方向穿过所述多个第一支撑结构上的第一限位凹槽；或者

每个所述第二支撑结构上设置有多个第二限位凹槽，每个所述第一支撑结构沿所述第一方向穿过所述多个第二支撑结构上的第二限位凹槽；

每个所述第一支撑结构上设置有多个第一限位凹槽，每个所述第二支撑结构上设置有多个第二限位凹槽，一个第一限位凹槽与一个第二限位凹槽配合固定。

4.根据权利要求3所述的掩膜装置，其特征在于，沿垂直于所述金属掩膜网方向，所述第一限位凹槽的槽深为所述第一支撑结构的厚度的一半，和/或，所述第二限位凹槽的槽深为所述第二支撑结构的厚度的一半。

5.根据权利要求3所述的掩膜装置，其特征在于，每个所述第二支撑架上的第二固定结构尺寸相同；

至少一个所述第二支撑架上的第二支撑结构与其他所述第二支撑架上的第二支撑结构沿所述第一方向的宽度不同；和/或

至少一个所述第二支撑架上的第二支撑结构与其他所述第二支撑架上的第二支撑结构沿垂直于所述金属掩膜网的方向的厚度不同。

6.根据权利要求3所述的掩膜装置，其特征在于，

每个所述第一支撑架中还包括位于所述第一支撑结构和所述第一固定结构之间的第一过渡结构，所述第一过渡结构的宽度沿所述第一固定结构向所述第一支撑结构方向逐渐变大；或者

每个所述第二支撑架中还包括位于所述第二支撑结构和所述第二固定结构之间的第二过渡结构，所述第二过渡结构的宽度沿所述第二固定结构向所述第二支撑结构方向逐渐变大。

7.根据权利要求6所述的掩膜装置，其特征在于，所述第一过渡结构固定在所述第一凹槽中，和/或，所述第二过渡结构固定在所述第二凹槽中。

8.根据权利要求3所述的掩膜装置，其特征在于，所述第一凹槽和所述第二凹槽尺寸相同。

9.根据权利要求3所述的掩膜装置，其特征在于，所述第一凹槽和/或所述第二凹槽设置在所述外框背向所述金属掩膜网的一侧。

10.根据权利要求3所述的掩膜装置，其特征在于，

沿所述第二方向，任意两个相邻的掩膜开口之间设置有至少一个第一支撑架；和/或

沿所述第一方向，任意两个相邻的掩膜开口之间设置有至少一个第二支撑架。