[实用新型]掩膜装置

说明书

本实用新型公开了一种掩膜装置，该掩膜装置包括掩膜支撑框架，该掩膜支撑框架包括外框和多个第一支撑架，该外框的第二边框上设置有多个第一凹槽；每个第一支撑架包括位于中段的第一支撑结构和位于两端的第一固定结构；每个第一支撑架的第一固定结构与外框上的第一凹槽配合固定；其中每个第一支撑架上的第一固定结构尺寸相同；其中至少一个第一支撑架上的第一支撑结构与其他第一支撑架上的第一支撑结构沿第二方向的宽度不同。该掩膜装置能够实现在简化安装的同时根据金属掩膜网中掩膜开口的排布特点针对性的进行支撑，进而使得金属掩膜网能与基板有效贴合，减少Shadow，优化蒸镀效果，减少边缘Mura不良产生概率。

技术领域

本申请涉及显示领域，具体而言，涉及一种掩膜装置。

背景技术

近年来，随着显示技术的不断发展，有源矩阵有机发光二极体(Active-matrixorganic light-emitting diode，AMOLED)显示面板逐渐进入公众的视野当中。由于显示技术涉及到有机膜层的制备，因此，真空蒸镀工艺被引入生产制程。蒸镀制程中，蒸镀材料加热到一定温度后蒸发并沉积至玻璃基板上。

蒸镀过程中一般通过金属掩膜版(CMM)将有机发光材料蒸镀至基板指定位置。CMM一般采用将CMM Sheet整面张网到框架(Frame)的方式。因为CMM网面是一个整体，很难保证掩膜版每个位置均能与基板有效贴合，最终产生较大Shadow，影响蒸镀效果，造成边缘Mura等不良。

实用新型内容

为了克服上述技术背景中所提及的技术问题，本申请实施例提供了一种掩膜装置，用以优化蒸镀效果。

为此，在本实用新型中提供了一种掩膜装置，包括金属掩膜网和掩膜支撑框架，所述金属掩膜网固定在所述掩膜支撑框架上且所述金属掩膜网包括多个掩膜开口，该掩膜支撑框架包括：

外框，所述外框具有方环结构，所述外框包括沿第一方向延伸的第一边框和沿第二方向延伸的第二边框，所述第二边框上设置有多个第一凹槽；

多个第一支撑架，每个所述第一支撑架包括位于中段的第一支撑结构和位于两端的第一固定结构；每个所述第一支撑架沿所述第一方向延伸且其两端的第一固定结构与所述外框上的第一凹槽配合固定；

其中每个所述第一支撑架上的第一固定结构尺寸相同；其中至少一个所述第一支撑架上的第一支撑结构与其他第一支撑架上的第一支撑结构沿第二方向的宽度不同；

其中，所述第一方向垂直于所述第二方向。

在一实施方式中，至少一个所述第一支撑架上的第一支撑结构与其他第一支撑架上的第一支撑结构沿垂直于所述金属掩膜网的方向的厚度不同。

在一实施方式中，所述第一边框上设置有多个第二凹槽；所述掩膜支撑框架还包括多个第二支撑架，每个所述第二支撑架包括位于中段的第二支撑结构和位于两端的第二固定结构；每个所述第二支撑架沿所述第二方向延伸且其两端的第二固定结构与所述外框上的第二凹槽配合固定；其中，

每个所述第一支撑结构上设置有多个第一限位凹槽，每个所述第二支撑结构沿所述第二方向穿过所述多个第一支撑结构上的第一限位凹槽；或者

每个所述第二支撑结构上设置有多个第二限位凹槽，每个所述第一支撑结构沿所述第一方向穿过所述多个第二支撑结构上的第二限位凹槽；

每个所述第一支撑结构上设置有多个第一限位凹槽，每个所述第二支撑结构上设置有多个第二限位凹槽，一个第一限位凹槽与一个第二限位凹槽配合固定。

在一实施方式中，沿垂直于所述金属掩膜网方向，所述第一限位凹槽的槽深大于等于所述第一支撑结构的厚度的一半，和/或,所述第二限位凹槽的槽深大于等于所述第二支撑结构的厚度的一半。

在一实施方式中，每个所述第二支撑架上的第二固定结构尺寸相同；