[实用新型]一种FMM精细金属掩膜板

说明书

本实用新型公开了一种FMM精细金属掩膜板，包括掩膜版，所述掩膜版包括蒸镀像素格和减重槽；所述减重槽位于所述掩膜版除所述蒸镀像素格之外的位置上。即本实用新型通过在掩膜版上设置减重槽，降低掩膜版的自身重量，从而减少掩膜版的下垂量，达到改善蒸镀良率及蒸镀品质的目的。

技术领域

本实用新型涉及AMOLED生产工艺领域，特别涉及一种FMM精细金属掩膜板。

背景技术

目前手机终端市场的发展趋势向着大尺寸、高分辨率的方向发展，对于高亮度、高对比度、高色域也有着更高的要求，而AMOLED(Active-matrix organic light-emittingdiode，有源矩阵有机发光二极体或主动矩阵有机发光二极体)显示技术的技术特点完美的满足了上述要求。现阶段AMOLED屏幕量产工厂均采用真空蒸镀工艺制备，而真空蒸镀工艺最为重要的一项技术即为FMM(Fine Metal Mask，精细金属掩膜板)张网制备技术，其直接影响了AMOLED屏幕的分辨率、产品良率及产品品质等。FMM由掩膜框架、遮挡金属条、制程金属条和掩膜版构成，而影响屏幕的分辨率及蒸镀品质的关键点之一是掩膜版的品质。由于自重的原因，掩膜版在张网后会自然下垂，目前量产采用的掩膜版厚度规格均无法完全克服掩膜版下垂，若下垂量过大则会导致掩膜版与背板玻璃间隙过大，导致混色，对蒸镀良率及品质均有较大影响。

实用新型内容

本实用新型所要解决的技术问题是：提供一种FMM精细金属掩膜板，以达到减少掩膜版下垂量的目的，改善蒸镀良率及蒸镀品质。

为了解决上述技术问题，本实用新型采用的技术方案为：

一种FMM精细金属掩膜板，包括掩膜版，所述掩膜版包括蒸镀像素格和减重槽；

所述减重槽位于所述掩膜版除所述蒸镀像素格之外的位置上。

进一步地，所述减重槽位于所述蒸镀像素格的相邻列或相邻行之间。

进一步地，所述减重槽的深度小于或等于所述掩膜版厚度的二分之一。

进一步地，所述减重槽的深度为所述掩膜版厚度的二分之一或三分之一或四分之一。

进一步地，所述减重槽设置在所述掩膜版上与背板玻璃贴合的一侧。

进一步地，还包括掩膜框架、多个支撑条和多个遮挡条；

多个所述支撑条和多个所述遮挡条垂直交叉均匀焊接固定在所述掩膜框架内；

所述掩膜版焊接固定在所述掩膜框架内多个所述支撑条和多个所述遮挡条上。

进一步地，所述掩膜版厚度为30μm、20μm或15μm。

进一步地，所述掩膜框架、所述支撑条、所述遮挡条和所述掩膜版均为Invar合金。

本实用新型的有益效果在于：本实用新型提供一种FMM精细金属掩膜板，通过在掩膜版上设置减重槽，降低掩膜版的自身重量，从而减少掩膜版的下垂量，达到改善蒸镀良率及蒸镀品质的目的。

附图说明

图1为一种FMM精细金属掩膜板的结构图；

图2为掩膜版的结构图；

图3为掩膜版的剖面图。

标号说明：

1、掩膜框架；2、支撑条；3、遮挡条；4、掩膜版；41、蒸镀像素格；42、减重槽；5、背板玻璃。

具体实施方式

为详细说明本实用新型的技术内容、所实现目的及效果，以下结合实施方式并配合附图予以说明。

请参照图1，一种FMM精细金属掩膜板，包括掩膜版，所述掩膜版包括蒸镀像素格和减重槽；