[实用新型]真空腔体氦检装置有效

专利信息
申请号: 202023245659.3 申请日: 2020-12-29
公开(公告)号: CN213956687U 公开(公告)日: 2021-08-13
发明(设计)人: 蔡立国;赵兴 申请(专利权)人: 上海华力微电子有限公司
主分类号: G01M3/20 分类号: G01M3/20
代理公司: 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 代理人: 顾浩
地址: 201203 *** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 空腔 体氦检 装置
【说明书】:

实用新型提供了一种真空腔体氦检装置,包含:前级管路,所述前级管路的第一端连通真空腔体;检测支路,所述检测支路的第一端连通所述前级管路,所述检测支路的第二端具有连通氦气检漏仪的接口,所述检测支路的第一端和其第二端之间设有开关阀。与现有技术相比,本实用新型的有益技术效果在于:在安装和拆卸氦气检漏仪的前先关闭开关阀,氦气检漏仪安装完毕后,再打开开关阀,氦气检漏仪能够与真空腔体连通,据此,在此过程中,真空腔体不存在回大气操作,没有暴露在大气环境中,不会带来空气中的水、氧或颗粒等污染物,减少腔体的恢复时间,提高作业效率。

技术领域

本实用新型涉及集成电路制造设备领域,特别涉及一种氦检装置。

背景技术

现有技术的真空腔体氦检装置在与真空腔体连接进行氦检的时候,会出现真空腔体存在两次回大气情形,也就是真空腔体会存在两次暴露大气的情形,即在将氦气检漏仪安装到真空腔体连接管路上时一次暴露大气,检测完毕后,再将氦气检漏仪拆卸是又一次暴露大气。而,空气中的水、氧、颗粒进入腔体,增加设备的恢复时间,增加了维护时间,氦气检漏的速度降低。

综上所述,现有技术中存在的问题是由于氦气检漏仪的安装和拆卸,导致将真空腔体两次暴露大气,将空气中的水、氧、颗粒等杂质带入到真空腔体中,增加真空腔体的恢复时间,氦气检漏维护效率降低。

实用新型内容

本实用新型需要解决的技术问题是:如何能够防止真空腔体暴露大气,防止空气中的水、氧、颗粒等进入腔体,避免增加不必要的设备恢复时间,提高机台的生产效率。

为了解决以上技术问题,本实用新型提供一种真空腔体氦检装置,其目的在于能够防止真空腔体暴露大气,空气中的水、氧、颗粒等也不会进入到腔体内,不需要增加去除前述有害物质的时间,缩短设备恢复时间,提升氦气检漏速度,减少设备维护时间,提升整体生产效率。

为了达到上述目的,本实用新型提供了一种真空腔体氦检装置,包含:

前级管路,所述前级管路的第一端连通真空腔体;

检测支路,所述检测支路的第一端连通所述前级管路,所述检测支路的第二端具有连通氦气检漏仪的接口,所述检测支路的第一端和其第二端之间设有开关阀。

优选地,所述前级管路的第二端连接真空泵。

优选地,所述前级管路上设有预留接口,所述检测支路的第一端连通所述预留接口。

优选地,所述预留接口具有第一管径,所述检测支路具有第二管径,所述检测支路的第一端通过转换接头连通所述预留接口,所述转换接头第一端具有与预留接口相配合的以第一管径为配合尺寸的第一接头端,所述转换接头第二端具有与检测支路的第一端接口相配合的以第二管径为配合尺寸的第二接头端。

优选地,所述开关阀为手动阀或动力阀或电磁阀。

优选地,所述检测支路的第二端的接口与所述氦气检漏仪的仪器入口可拆卸地连接。

优选地,所述检测支路的第二端的接口与闷盖可拆卸地连接。

优选地,所述真空腔体氦检装置用于化学气相沉积反应设备。

优选地,所述真空腔体包含传输腔体和载入腔体。

优选地,所述前级管路数量为至少二条,所述检测支路数量为至少二条。

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