[实用新型]一种用于双面数字化曝光的基材平整装置

权利要求书

1.一种用于双面数字化曝光的基材平整装置，其特征在于，包括：

固定机构(200)，用于对基材(100)进行初步定位；

悬浮辅助支撑机构(300)，包括涡流组件(310)、磁性组件(320)，所述涡流组件(310)与所述磁性组件(320)相互作用而施加垂直于所述基材(100)表面的支撑力。

2.根据权利要求1所述的用于双面数字化曝光的基材平整装置，其特征在于，所述固定机构(200)包括拉紧机构和/或支撑机构。

3.根据权利要求1所述的用于双面数字化曝光的基材平整装置，其特征在于，还包括检测反馈机构，用于检测所述基材(100)表面的平整度以及根据所述平整度调整所述支撑力的大小。

4.根据权利要求3所述的用于双面数字化曝光的基材平整装置，其特征在于，所述涡流组件(310)包括设置在所述基材(100)上且位于曝光区域外围的涡流线圈(311)、与所述涡流线圈(311)连接的输入触点(312)，所述涡流线圈(311)沿所述基材(100)中心对称分布，所述输入触点(312)与所述检测反馈机构电性连接，所述磁性组件(320)设置在所述基材(100)中心的正上方和/或正下方。

5.根据权利要求4所述的用于双面数字化曝光的基材平整装置，其特征在于，所述涡流线圈(311)通过空间投影成像无掩模光刻技术制造成形。

6.根据权利要求4所述的用于双面数字化曝光的基材平整装置，其特征在于，所述涡流线圈(311)通过FPC制备工艺制造成形。

7.根据权利要求4所述的用于双面数字化曝光的基材平整装置，其特征在于，所述涡流线圈(311)通过热压印技术组装而成。

8.根据权利要求3所述的用于双面数字化曝光的基材平整装置，其特征在于，所述磁性组件(320)包括设置在所述基材(100)上且位于曝光区域外围的永磁体和/或电磁体，所述永磁体和/或电磁体产生的磁场沿所述基材(100)中心对称分布，所述涡流组件(310)设置在所述基材(100)中心的正上方和/或正下方，所述涡流组件(310)与所述检测反馈机构电性连接。

9.根据权利要求3所述的用于双面数字化曝光的基材平整装置，其特征在于，所述磁性组件(320)包括设置在所述基材(100)中心的至少一组永磁体，所述永磁体产生的磁场沿所述基材(100)中心对称分布，所述涡流组件(310)设置在所述基材(100)中心的正上方和/或正下方，所述涡流组件(310)与所述检测反馈机构连接，所述永磁体为透明结构。